公开(公告)号：CN115229653B

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202210929431.0

申请日：2022-08-03

Applicant: 浙江工业大学

Inventor： 吕冰海 ,  顾佳杰 ,  方维 ,  周鑫磊 ,  邓乾发

IPC: B24B29/08 ,  B24B21/02 ,  B24B21/20 ,  B24B41/06 ,  B24B41/02 ,  B24B47/16 ,  B24B57/02

Abstract: 本发明属于高精度单晶光纤抛光设备领域，具体涉及一种单晶光纤高效抛光装置及方法，包括抛光盘机构、抛光带机构及轴向振动机构，抛光盘机构包括机架和抛光盘，抛光盘前后滑动安装于机架上，其上成排设置若干定位槽，抛光带机构包括抛光带和传动组件，传动组件用以带动抛光带循环转动，抛光带用以与单晶光纤接触，并带动单晶光纤自转，振动机构用以驱使抛光盘带动单晶光纤前后往复移动。本发明中的抛光带具有柔性特征，装有弹性加压结构，都不易对工件造成表面损坏。抛光液中磨粒附着面广，磨粒对工件表面微凸峰进行去除，抛光效率较高。且加工工件既可自转又可轴向移动，避免轨迹重复、抛光均匀，抛光压力可控，抛光效果良好。

公开(公告)号：CN115229653A

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN202210929431.0

申请日：2022-08-03

Applicant: 浙江工业大学

Inventor： 吕冰海 ,  顾佳杰 ,  方维 ,  周鑫磊 ,  邓乾发

IPC: B24B29/08 ,  B24B21/02 ,  B24B21/20 ,  B24B41/06 ,  B24B41/02 ,  B24B47/16 ,  B24B57/02

Abstract: 本发明属于高精度单晶光纤抛光设备领域，具体涉及一种单晶光纤高效抛光装置及方法，包括抛光盘机构、抛光带机构及轴向振动机构，抛光带机构包括机架和抛光盘，抛光盘前后滑动安装于机架上，其上成排设置若干定位槽，抛光带机构包括抛光带和传动组件，传动组件用以带动抛光带循环转动，抛光带用以与单晶光纤接触，并带动单晶光纤自转，振动机构用以驱使抛光盘带动单晶光纤前后往复移动。本发明中的抛光带具有柔性特征，装有弹性加压结构，都不易对工件造成表面损坏。抛光液中磨粒附着面广，磨粒对工件表面微凸峰进行去除，抛光效率较高。且加工工件既可自转又可轴向移动，避免轨迹重复、抛光均匀，抛光压力可控，抛光效果良好。

公开(公告)号：CN113427389B

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN202110659173.4

申请日：2021-06-15

Applicant: 浙江工业大学

Inventor： 吕冰海 ,  顾佳杰 ,  祝佳俊 ,  段世祥 ,  傅琳 ,  邓乾发

IPC: B24B31/00 ,  B24B31/10 ,  B24B31/12 ,  B24B41/06 ,  B24B47/12 ,  B24B49/00 ,  C09G1/04

Abstract: 一种圆柱滚子力流变抛光方法，使用非牛顿流体作为基底制成抛光液，利用非牛顿流体力流变增加抛光液与圆柱滚子之间的去除率，达到高效的抛光；在抛光过程中，圆柱滚子工件与抛光液二者之间存在相对运动，抛光液与工件接触部分受剪切作用会发生剪切增稠现象，会产生一系列“粒子簇”，这会使接触区域抛光液的黏度增大，并形成剪切增稠弹性，增强了固态粒子对磨粒的把持作用，从而使得圆柱滚子与抛光液接触部位形成一个类似“柔性固着磨具”，从而抛光液中的磨粒会对圆柱滚子表面产生微切削作用，从而实现抛光效果。本发明提供一种低成本、较高去除率、高一致性的圆柱滚子力流变抛光方法。

公开(公告)号：CN113427389A

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN202110659173.4

申请日：2021-06-15

Applicant: 浙江工业大学

Inventor： 吕冰海 ,  顾佳杰 ,  祝佳俊 ,  段世祥 ,  傅琳 ,  邓乾发

IPC: B24B31/00 ,  B24B31/10 ,  B24B31/12 ,  B24B41/06 ,  B24B47/12 ,  B24B49/00 ,  C09G1/04

Abstract: 一种圆柱滚子力流变抛光方法，使用非牛顿流体作为基底制成抛光液，利用非牛顿流体力流变增加抛光液与圆柱滚子之间的去除率，达到高效的抛光；在抛光过程中，圆柱滚子工件与抛光液二者之间存在相对运动，抛光液与工件接触部分受剪切作用会发生剪切增稠现象，会产生一系列“粒子簇”，这会使接触区域抛光液的黏度增大，并形成剪切增稠弹性，增强了固态粒子对磨粒的把持作用，从而使得圆柱滚子与抛光液接触部位形成一个类似“柔性固着磨具”，从而抛光液中的磨粒会对圆柱滚子表面产生微切削作用，从而实现抛光效果。本发明提供一种低成本、较高去除率、高一致性的圆柱滚子力流变抛光方法。

公开(公告)号：CN115194638A

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN202210927914.7

申请日：2022-08-03

Applicant: 浙江工业大学

Inventor： 吕冰海 ,  顾佳杰 ,  祝佳俊 ,  周雨 ,  邓乾发

IPC: B24B37/025 ,  B24B37/02 ,  B24B37/34 ,  B24B27/00 ,  B24B41/00 ,  B01F23/62 ,  B01F35/75 ,  B01F101/27

Abstract: 本发明属于高精度球体研磨加工设备领域，具体涉及一种下置式变曲率沟槽球体循环研磨装置及方法，包括下研磨盘、上研磨盘、进料组件和循环管道，下研磨盘上表面设置螺旋形的变曲率沟槽，下研磨盘位于下研磨盘上端，其相对下研磨盘不发生转动，进料组件的下端与变曲率沟槽的入口连接，其用以为变曲率沟槽输送球体，循环管道的下端与变曲率沟槽的出口连接，上端伸至进料组件上方。本发明通过循环管道实现球体的循环研磨，结构更加简单，成本更低。

公开(公告)号：CN215470398U

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202121366459.5

申请日：2021-06-15

Applicant: 浙江工业大学

Inventor： 顾佳杰 ,  吕冰海 ,  祝佳俊 ,  段世祥 ,  傅琳 ,  邓乾发

IPC: B24B29/04 ,  B24B41/06 ,  B24B41/02 ,  B24B41/00

Abstract: 一种圆柱滚子力流变抛光装置，包括上研磨盘、载物盘、压力传感器、弹簧压力装置和抛光槽，所述上研磨盘为偏心转动，所述上研磨盘上连接压力传感器、弹簧压力装置；所述上研磨盘位于载物盘上方，所述载物盘的直槽为放置待抛光圆柱滚子的工位，所述载物盘固定在转动轴上，所述上研磨盘和载物盘位于所述抛光槽内，力流变抛光液放置在所述抛光槽内。本实用新型提供一种低成本、较高去除率、高一致性的圆柱滚子力流变抛光装置。