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公开(公告)号：CN118546610A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410602304.9
申请日：2024-05-15
申请人： 浙江奥首材料科技有限公司
摘要： 本发明涉及一种应用于超薄单晶硅片抛光制程的水性抛光蜡及其制备方法。所述的水性抛光蜡按照重量份计算，包括如下组分：去离子水40‑60份；亲水性溶剂10‑20份；水性增强剂1‑5份；水性粘结剂1‑10份；分散剂1‑5份；pH调节剂1‑10份；流平剂0.1‑5份；本发明水性增强剂与水性粘结剂复合兼具无机纳米增强剂的机械强度和水性粘结剂的高粘度，保证硅片在抛光作业中不会出现滑片问题。阴离子聚合分散剂与氟碳改性流平剂能够保证水性增强剂分布均匀。本发明的水性抛光蜡受加工温度的影响较小，不易出现受热变形的问题，且主要溶剂是水，减少了挥发性有机物的排放。
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公开(公告)号：CN115521714B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202211298553.0
申请日：2022-10-24
申请人： 浙江奥首材料科技有限公司
IPC分类号： C09G1/02
摘要： 本发明提供一种油性金刚石抛光液、其制备方法及用途。本发明油性金刚石抛光液包括重量配比如下的各组分：金刚石磨料0.1‑1份；油性剂70‑90份；润滑剂2‑15份；分散剂0.5‑5份；润湿剂0.1‑2份；螯合剂0.1‑2份。所述金刚石磨料为类多晶、多晶、单晶和聚晶中的两种或多种混合磨料。所述油性剂为烷烃与矿物油的混合物。本发明还公开了油性金刚石抛光液的制备方法，及其在蓝宝石抛光领域的用途。本发明油性金刚石抛光液安全、环保、高效，对蓝宝石衬底无腐蚀。在相同磨料下，本发明油性金刚石抛光液与水性抛光液相比较，具有较高的移除率以及较低的粗糙度。
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公开(公告)号：CN115558427A
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202211299574.4
申请日：2022-10-24
申请人： 浙江奥首材料科技有限公司
IPC分类号： C09G1/02 , H01L21/306
摘要： 本发明提供一种基于微电解‑芬顿氧化体系的抛光液、其制备方法及用途，所述基于微电解‑芬顿氧化体系的抛光液包括重量配比如下的各组分：铁碳微电解填料0.1‑40份；抛光磨料10‑40份；氧化剂0.1‑20份；pH调节剂1‑10份；去离子水30‑85份。所述铁碳微电解填料采用以下方法制备而成：将铁粉和碳粉以1:2‑2:1的质量比混合，在隔绝空气的条件下，800‑1200℃烧结6‑8h。本发明基于微电解‑芬顿氧化体系的抛光液具有成本低、氧化效率高和氧化条件易操控的特点，采用该抛光液抛光的氮化镓表面质量高，划伤少。
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公开(公告)号：CN113621346A
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202110862927.6
申请日：2021-07-29
申请人： 浙江奥首材料科技有限公司
IPC分类号： C09K3/14
摘要： 本发明提供一种应用于大尺寸硅片研磨的悬浮助剂、其制备方法及用途，所述悬浮助剂包括重量配比如下的各组分：氢键触变剂0.5‑5份；悬浮增效剂0.5‑5份；电荷中和剂0.1‑1份；分散剂0.5‑10份；润滑剂10‑20份；防锈剂0.1‑0.5份；水50‑85份。本发明还公开了上述悬浮助剂的制备方法，包括以下步骤：向去离子水中依次加入分散剂、润滑剂、电荷中和剂和防锈剂；加热至40℃后，向溶液中加入氢键触变剂，乳液静置溶胀稳定；向溶液中加入悬浮增效剂，制备得到应用于大尺寸硅片研磨的悬浮助剂。本发明制备的悬浮助剂可以有效增加复合磨料的悬浮性能，同时对不同磨料具有良好的分散性，避免循环研磨中形成磨料团聚和磨料硬沉淀。
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公开(公告)号：CN118725312A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410717840.3
申请日：2024-06-04
申请人： 浙江奥首材料科技有限公司
IPC分类号： C08G81/00 , C09J187/00 , H01L21/683
摘要： 本发明涉及一种酚醛改性聚草酸纤维素酯、用于超薄器件加工耐高温键合胶及制备方法，按照重量份计算，所述键合胶包括如下组分：酚醛改性聚草酸纤维素酯30‑60份；极性溶剂20‑60份；非极性溶剂10‑30份；流平剂0.2‑1份；抗氧剂0.1‑0.6份。本发明通过酯交换‑真空缩聚一锅法合成了酚醛改性聚草酸纤维素酯，低分子量的聚草酸纤维素酯易软化，接枝酚醛树脂后的聚合物热稳定性提高，本发明采用受阻酚类抗氧剂既与酚醛改性聚草酸纤维素酯协同作用控制聚合物分子链长度，又能在键合胶应用中起到高温抗老化作用。
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公开(公告)号：CN115212920B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202210807976.4
申请日：2022-07-11
申请人： 浙江奥首材料科技有限公司
摘要： 本发明提供一种壳聚糖基分散催化剂、包含其的半导体材料抛光液、其制备方法及用途。本发明壳聚糖基分散催化剂是由壳聚糖和催化剂耦合而成，其催化剂均匀的负载于壳聚糖表面，暴露了更多的活性位点，因此在氮化镓抛光的过程中可以获得更高的移除速率。本发明还公开了一种基于壳聚糖悬浮体系的半导体材料抛光液，包括重量配比如下的各组分：抛光磨料15‑40份；氧化剂0.1‑10份；上述壳聚糖基分散催化剂5‑20份；pH调节剂5‑25份；多元醇15‑25份；去离子水20‑75份。该抛光液具有极佳的悬浮分散性和稳定性，且采用其抛光后的半导体材料表面质量极高，划伤极少。该抛光液适用于氮化镓、碳化硅及蓝宝石等半导体材料的抛光。
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公开(公告)号：CN114736654A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210456119.4
申请日：2022-04-28
申请人： 浙江奥首材料科技有限公司
摘要： 本发明提供一种球形磨料、制备方法、用途及包含其的蓝宝石研磨液。所述球形磨料由金刚石微粉、氧化铝粉和氧化硅粉混合烧结而成，将金刚石微粉固结在球形磨料中，增加金刚石切削锐角与蓝宝石晶片接触面积。本发明还公开了一种蓝宝石研磨液，包括上述球形磨料、金刚石磨料、悬浮剂、润滑剂、pH调节剂、润湿剂、分散剂、防锈剂和水。本发明蓝宝石研磨液，能在保证晶片表面质量的前提下，提高研磨效率，降低加工成本。采用本发明蓝宝石研磨液研磨得到的蓝宝石衬底表面粗糙度低、平整度好、无明显划痕。本发明蓝宝石研磨液具有非常良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。
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公开(公告)号：CN118915405A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202410775848.5
申请日：2024-06-17
申请人： 浙江奥首材料科技有限公司
摘要： 本发明提供一种低腐蚀芯片光刻胶剥离液、其制备方法及应用，所述低腐蚀芯片光刻胶剥离液包括重量配比如下的各组分：胺类化合物5‑15份；酰胺类溶剂60‑80份；羟基化萘醌4‑10份；醌类盐0.1‑0.5份。本发明低腐蚀芯片光刻胶剥离液在保证去胶能力的同时，通过羟基化萘醌和醌类盐的协同作用，一方面在金属表面形成保护膜，另一方面作为氧化还原中心降低电化学腐蚀，从而对Al、Ni金属电极具有很好的保护效果，能够有效抑制其腐蚀，延长寿命。本发明低腐蚀芯片光刻胶剥离液在半导体芯片清洗领域具有非常良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。
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公开(公告)号：CN115044299B
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202210776265.5
申请日：2022-07-04
申请人： 浙江奥首材料科技有限公司
摘要： 本发明提供一种水溶性高比重大尺寸磨料悬浮助剂、制备方法、用途及包含其的研磨液。所述水溶性高比重大尺寸磨料悬浮助剂包括重量配比如下的各组分：流变剂1‑10份；流变调节剂0.5‑5份；有机碱5‑20份；分散剂5‑10份；润湿剂0.5‑5份；电荷调节剂0.1‑1份；摩擦系数调节剂0.5‑5份；水40‑60份。将含有该悬浮助剂的研磨液用于蓝宝石衬底粗磨工艺，能保持稳定高粘度状态和极佳的流动性，使得大尺寸磨料长时间、均匀、稳定悬浮，同时控制磨料颗粒均匀的分布状态，保持较高的研磨效率，使得加工后蓝宝石表面粗糙度可控于0.95‑1.05μm之间，平整度好且无明显划痕，研磨后形成水性吸附保护膜，易于冲水清洗。
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公开(公告)号：CN114752353B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202210455507.0
申请日：2022-04-28
申请人： 浙江奥首材料科技有限公司
摘要： 本发明提供一种CNTs‑Al2O3复合磨料、其制备方法、应用及包含其的抛光液。所述CNTs‑Al2O3复合磨料由多壁碳纳米管CNTs包覆氧化铝粉改性复合而成。所述抛光液包括重量配比如下的各组分：pH调节剂0.5‑3份、多元醇1‑3份、螯合剂0.5‑3份、CNTs‑Al2O3复合磨料20‑40份、超纯水85‑98份。包含CNTs‑Al2O3复合磨料的抛光液无需添加分散剂，即能提高抛光液的悬浮分散性稳定性，进而大大提高抛光表面质量，减少划伤，同时兼具蓝宝石衬底高移除速率的优点。本发明抛光液在蓝宝石、碳化硅或氮化镓研磨抛光领域具有非常良好的应用前景和大规模工业化推广潜力。
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