一种硅基磁光非互易脊形光波导

    公开(公告)号:CN112596158A

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN202011526413.5

    申请日:2020-12-22

    IPC分类号: G02B6/122

    摘要: 本发明公开了一种硅基磁光非互易脊形光波导,在SOI晶片上顶层硅的基础上形成条形光波导的芯部。这种光波导的特征在于:脊形光波导的芯部包括两部分,一部分是位于波导芯部最上层的铁磁金属纳米颗粒掺杂条形顶层硅芯部,另一部分是位于铁磁金属纳米颗粒掺杂条形顶层硅芯部与氧化硅层之间的脊形顶层硅芯部,其中铁磁金属纳米颗粒掺杂条形顶层硅芯部中的铁磁金属纳米颗粒在SOI基片上的顶层硅中用掺杂技术原位形成。本发明可以实现硅基磁光非互易脊形光波导的制作,解决了磁光材料与SOI脊形顶层硅芯部光学参数之间匹配的问题,同时解决了磁光材料与硅基光波导制作工艺的兼容性问题。

    一种采用内阻挡层提高玻璃基光波导芯部对称性的方法

    公开(公告)号:CN113391396B

    公开(公告)日:2023-09-19

    申请号:CN202110637036.0

    申请日:2021-06-08

    IPC分类号: G02B6/134

    摘要: 本发明公开了一种在玻璃基片背面采用内阻挡层提高玻璃基光波导芯部对称性的方法。包括:将玻璃基片置于含K+熔盐中进行离子交换处理,在所述玻璃基片背面对应的非光波导区域形成高电阻率的内阻挡层;通过离子交换处理和电场辅助离子迁移处理,在背面带有内阻挡层的玻璃基片上形成掩埋式离子掺杂区;其中,在进行所述电场辅助迁移处理过程中,玻璃基片背面高电阻率的内阻挡层使离子掺杂区附近的电场分布呈现横向汇聚的特征,抑制了玻璃基片中离子掺杂区在电场辅助离子迁移过程中的横向展宽趋势,提高了玻璃基片中作为光波导芯部的掩埋式离子掺杂区的对称性。

    一种硅基磁光非互易条形光波导

    公开(公告)号:CN112596157A

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN202011526381.9

    申请日:2020-12-22

    IPC分类号: G02B6/122

    摘要: 本发明公开了一种硅基磁光非互易条形光波导,在SOI晶片上顶层硅的基础上形成条形光波导的芯部。这种光波导的特征在于:条形光波导的芯部包括两部分,一部分是位于波导芯部最上层的铁磁金属纳米颗粒掺杂条形顶层硅芯部,另一部分是位于铁磁金属纳米颗粒掺杂条形顶层硅芯部与氧化硅层之间的条形顶层硅芯部,其中铁磁金属纳米颗粒掺杂条形顶层硅芯部中的铁磁金属纳米颗粒在SOI基片上的顶层硅中用掺杂技术原位形成。本发明可以实现硅基磁光非互易条形光波导的制作,解决了磁光材料与SOI条形顶层硅芯部光学参数之间匹配的问题,同时解决了磁光材料与硅基光波导制作工艺的兼容性问题。

    一种硅基磁光非互易条形光波导

    公开(公告)号:CN112596157B

    公开(公告)日:2024-06-18

    申请号:CN202011526381.9

    申请日:2020-12-22

    IPC分类号: G02B6/122

    摘要: 本发明公开了一种硅基磁光非互易条形光波导,在SOI晶片上顶层硅的基础上形成条形光波导的芯部。这种光波导的特征在于:条形光波导的芯部包括两部分,一部分是位于波导芯部最上层的铁磁金属纳米颗粒掺杂条形顶层硅芯部,另一部分是位于铁磁金属纳米颗粒掺杂条形顶层硅芯部与氧化硅层之间的条形顶层硅芯部,其中铁磁金属纳米颗粒掺杂条形顶层硅芯部中的铁磁金属纳米颗粒在SOI基片上的顶层硅中用掺杂技术原位形成。本发明可以实现硅基磁光非互易条形光波导的制作,解决了磁光材料与SOI条形顶层硅芯部光学参数之间匹配的问题,同时解决了磁光材料与硅基光波导制作工艺的兼容性问题。

    一种采用内阻挡层提高玻璃基光波导芯部对称性的方法

    公开(公告)号:CN113391396A

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202110637036.0

    申请日:2021-06-08

    IPC分类号: G02B6/134

    摘要: 本发明公开了一种在玻璃基片背面采用内阻挡层提高玻璃基光波导芯部对称性的方法。包括:将玻璃基片置于含K+熔盐中进行离子交换处理,在所述玻璃基片背面对应的非光波导区域形成高电阻率的内阻挡层;通过离子交换处理和电场辅助离子迁移处理,在背面带有内阻挡层的玻璃基片上形成掩埋式离子掺杂区;其中,在进行所述电场辅助迁移处理过程中,玻璃基片背面高电阻率的内阻挡层使离子掺杂区附近的电场分布呈现横向汇聚的特征,抑制了玻璃基片中离子掺杂区在电场辅助离子迁移过程中的横向展宽趋势,提高了玻璃基片中作为光波导芯部的掩埋式离子掺杂区的对称性。