公开(公告)号：CN119781095A

公开(公告)日：2025-04-08

申请号：CN202411727204.5

申请日：2024-11-28

Applicant: 浙江大学

Inventor： 沈伟东 ,  王雨思 ,  郑婷婷 ,  杨陈楹 ,  袁凯欣

IPC: G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  C23C14/06 ,  C23C14/35

Abstract: 本发明公开了一种紫外、可见、近红外的硬质减反射膜，该硬质减反射膜包括在光学基底上交替排列的掺氢氮化硅薄膜和低折射率膜层；其中，所述掺氢氮化硅薄膜的厚度在所述硬质减反射膜厚度的占比大于70％；该硬质减反射膜的总厚度为500‑2500nm；通过以下方法制备该掺氢氮化硅薄膜，包括：通过氩气溅射硅靶材；然后通过射频等离子体源辅助反应气体，使得基底上形成掺氢氮化硅薄膜，所述反应气体为H2和N2，H2的流量为5‑100sccm。该紫外、可见、近红外波段具有较高透过率和机械性能的硬质减反射膜。

公开(公告)号：CN118859372A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202411113018.2

申请日：2024-08-14

Applicant: 浙江大学

Inventor： 沈伟东 ,  王雨思 ,  袁凯欣 ,  杨陈楹 ,  郑婷婷

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/115 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明公开了一种可见光波段的硬质减反射膜、光学薄膜制品，所述的硬质减反射膜包括交替排列的高折射率膜层和低折射率膜层，高折射率膜层的总厚度为硬质减反射膜厚度的60‑95％，其中高折射率膜层为折射率≥1.7的膜层，低折射率膜层为折射率≤1.6的膜层。本发明基于折射率“栅栏”式的光学设计方法，通过调控高、低折射率膜层的光学厚度比例和膜层周期数调控薄膜的总厚度，并优化高折射率膜层总厚度与薄膜总厚度的占比，得到了同时具有优异的光学性能、机械强度和耐磨性的硬质减反射膜，该硬质减反射膜在可见光400‑700nm波段和930‑950nm的平均反射率低于1.5％，最大硬度在15GPa以上。