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公开(公告)号：CN102703880A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201210197619.7
申请日：2012-06-12
Applicant: 浙江大学
IPC: C23C16/44
Abstract: 本发明公开了一种利用原子层沉积制备高精度光学宽带抗反射多层膜的方法，包括：1）利用原子层沉积技术，在基材上沉积第一折射率层，测得不同循环次数下的第一折射率层的厚度，并计算相应的生长速率，绘制成速率曲线；2）通过速率曲线确定稳态速率，找出过渡区的划分点，并得到该过渡区的划分点所对应的循环次数和生长速率，该循环次数和该生长速率的乘积为预沉积层厚度基准；3）在宽带抗反射多层膜初始膜系和基材之间引入一层预沉积层，并进行优化；4）利用原子层沉积技术，在新的基材按厚度优化值先沉积预沉积层，再交替沉积第二折射率层和第一折射率层，制备得到高精度光学宽带抗反射多层膜，精度极高，抗反射性能优异。
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公开(公告)号：CN102703880B
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201210197619.7
申请日：2012-06-12
Applicant: 浙江大学
IPC: C23C16/44
Abstract: 本发明公开了一种利用原子层沉积制备高精度光学宽带抗反射多层膜的方法，包括：1）利用原子层沉积技术，在基材上沉积第一折射率层，测得不同循环次数下的第一折射率层的厚度，并计算相应的生长速率，绘制成速率曲线；2）通过速率曲线确定稳态速率，找出过渡区的划分点，并得到该过渡区的划分点所对应的循环次数和生长速率，该循环次数和该生长速率的乘积为预沉积层厚度基准；3）在宽带抗反射多层膜初始膜系和基材之间引入一层预沉积层，并进行优化；4）利用原子层沉积技术，在新的基材按厚度优化值先沉积预沉积层，再交替沉积第二折射率层和第一折射率层，制备得到高精度光学宽带抗反射多层膜，精度极高，抗反射性能优异。
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公开(公告)号：CN103018811A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210539537.6
申请日：2012-12-12
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种利用原子层沉积技术制备褶皱负滤光片的方法，包括：设计一种褶皱负滤光片，得到折射率随着厚度的分布曲线，将设计的褶皱负滤光片划分成若干个折射率层；采用对称膜系等效层的方法，将每个折射率层的折射率等效为一个恒值折射率；采用第一折射率材料以及第二折射率材料，将每个折射率层分成T个循环周期数，再确定每个循环周期数内第一折射率材料的厚度d1和第二折射率材料的厚度d2；采用原子层沉积技术依次沉积折射率层，得到褶皱负滤光片。本发明利用ALD原子量级的沉积精度以及优异的重复性，克服了当前褶皱负滤光片制备过程中极薄层监控困难、设备复杂、花费昂贵等问题，精确控制厚度，制备褶皱负滤光片。
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公开(公告)号：CN103018811B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201210539537.6
申请日：2012-12-12
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种利用原子层沉积技术制备褶皱负滤光片的方法，包括：设计一种褶皱负滤光片，得到折射率随着厚度的分布曲线，将设计的褶皱负滤光片划分成若干个折射率层；采用对称膜系等效层的方法，将每个折射率层的折射率等效为一个恒值折射率；采用第一折射率材料以及第二折射率材料，将每个折射率层分成T个循环周期数，再确定每个循环周期数内第一折射率材料的厚度d1和第二折射率材料的厚度d2；采用原子层沉积技术依次沉积折射率层，得到褶皱负滤光片。本发明利用ALD原子量级的沉积精度以及优异的重复性，克服了当前褶皱负滤光片制备过程中极薄层监控困难、设备复杂、花费昂贵等问题，精确控制厚度，制备褶皱负滤光片。
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