一种直接置换插层制备层间距为0.85nm的水合高岭石的方法

    公开(公告)号:CN102107877B

    公开(公告)日:2012-08-08

    申请号:CN201010599690.9

    申请日:2010-12-22

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开了一种直接置换插层制备层间距为0.85nm的水合高岭石的方法,该法包括以下步骤:先通过研磨后续热处理法制备得到尿素/高岭石插层复合物和多余尿素的混合物;再将多余的尿素用去离子水洗去,得到尿素/高岭石插层复合物;最后将尿素/高岭石插层复合物加入到热水中搅拌几分钟,离心干燥后即可得到层间距为0.85nm的水合高岭石。本发明制备层间距为0.85nm的水合高岭石在空气中能够长时间稳定存在,被用来作为制备其他高岭石插层复合物的前躯体。采用的原料对环境无污染,制备工艺简单快速,成本低,易于实现工业化生产。

    一种直接置换插层制备0.85nm水合高岭石的方法

    公开(公告)号:CN102107877A

    公开(公告)日:2011-06-29

    申请号:CN201010599690.9

    申请日:2010-12-22

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开了一种直接置换插层制备0.85nm水合高岭石的方法,该法包括以下步骤:先通过研磨后续热处理法制备得到尿素/高岭石插层复合物和多余尿素的混合物;再将多余的尿素用去离子水洗去,得到尿素/高岭石插层复合物;最后将尿素/高岭石插层复合物加入到热水中搅拌几分钟,离心干燥后即可得到0.85nm水和高岭石。本发明制备的0.85nm水合高岭石在空气中能够长时间稳定存在,被用来作为制备其他高岭石插层复合物的前躯体。采用的原料对环境无污染,制备工艺简单快速,成本低,易于实现工业化生产。

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