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公开(公告)号:CN106784122B
公开(公告)日:2018-06-22
申请号:CN201611089638.2
申请日:2016-12-01
Applicant: 浙江大学
IPC: H01L31/108 , H01L31/0352 , H01L31/18
Abstract: 本发明公开了一种基于石墨烯/掺硼硅量子点/硅的光电探测器及制备方法,该光电探测器包括n型硅衬底、顶电极、石墨烯薄膜、掺硼硅量子点薄膜和底电极;本发明光电探测器可以进行宽光谱探测,解决了传统硅基PIN结对红外探测响应低的问题;该探测器以石墨烯作为有源层和透明电极,消除死层,增强入射光的吸收;掺硼硅量子点薄膜在中间减少了硅表面态的影响,同时抑制了反向饱和电流;在一定的反向偏压作用下,光生载流子与硅晶格产生碰撞离子化,获得较高的光电响应;本发明采用的制备工艺简单,成本低廉,具有响应度高,响应速度快,内部增益大,开关比小,易于集成的特点。
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公开(公告)号:CN106784122A
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201611089638.2
申请日:2016-12-01
Applicant: 浙江大学
IPC: H01L31/108 , H01L31/0352 , H01L31/18
CPC classification number: H01L31/108 , H01L31/035218 , H01L31/1804
Abstract: 本发明公开了一种基于石墨烯/掺硼硅量子点/硅的光电探测器及制备方法,该光电探测器包括n型硅衬底、顶电极、石墨烯薄膜、掺硼硅量子点薄膜和底电极;本发明光电探测器可以进行宽光谱探测,解决了传统硅基PIN结对红外探测响应低的问题;该探测器以石墨烯作为有源层和透明电极,消除死层,增强入射光的吸收;掺硼硅量子点薄膜在中间减少了硅表面态的影响,同时抑制了反向饱和电流;在一定的反向偏压作用下,光生载流子与硅晶格产生碰撞离子化,获得较高的光电响应;本发明采用的制备工艺简单,成本低廉,具有响应度高,响应速度快,内部增益大,开关比小,易于集成的特点。
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