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公开(公告)号:CN105556618B
公开(公告)日:2018-04-03
申请号:CN201480049430.0
申请日:2014-08-06
Applicant: 洛克技研工业株式会社
Inventor: 河添昭造
CPC classification number: H05K9/0094 , B32B2307/202 , B32B2307/412 , B32B2307/554 , B32B2307/584 , B32B2457/00 , B32B2457/208 , C23C14/08 , G06F3/044 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , H01L31/022466 , H01L31/0392 , H01L31/1884 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供一种透明导电性基材,其在基材(11)的单面或双面依次叠层有透明导电性薄膜层(12)和透明金属氧化物层(13),通过散布颗粒(13a)来形成透明金属氧化物层(13),ITO等透明导电性薄膜层与金属和金属膏等的电极间的导电性高,而且透明性、折射率匹配性、耐擦伤性、蚀刻性也良好。
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公开(公告)号:CN110648783A
公开(公告)日:2020-01-03
申请号:CN201811344911.0
申请日:2018-11-13
Applicant: 洛克技研工业株式会社
Inventor: 河添昭造
IPC: H01B5/14
Abstract: 提供一种ITO薄膜以及透明导电性薄膜,ITO薄膜在不进行退火处理的状态下提高非晶ITO膜的稳定性,电阻值随时间没有变化、提高防潮性和阻气性,并克服由弯曲引起的裂纹;透明导电性薄膜具有优异的导电性、透明性以及耐久性。本发明的ITO薄膜在具有挠性的基材的表面,形成有未进行退火处理的状态的非晶ITO膜,其特征在于,非晶ITO膜的膜厚在30nm~320nm的范围内,非晶ITO膜的表面电阻在9~105(Ω/□)的范围内。
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公开(公告)号:CN105556618A
公开(公告)日:2016-05-04
申请号:CN201480049430.0
申请日:2014-08-06
Applicant: 洛克技研工业株式会社
Inventor: 河添昭造
CPC classification number: H05K9/0094 , B32B2307/202 , B32B2307/412 , B32B2307/554 , B32B2307/584 , B32B2457/00 , B32B2457/208 , C23C14/08 , G06F3/044 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , H01L31/022466 , H01L31/0392 , H01L31/1884 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供一种透明导电性基材,其在基材(11)的单面或双面依次叠层有透明导电性薄膜层(12)和透明金属氧化物层(13),通过散布颗粒(13a)来形成透明金属氧化物层(13),ITO等透明导电性薄膜层与金属和金属膏等的电极间的导电性高,而且透明性、折射率匹配性、耐擦伤性、蚀刻性也良好。
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公开(公告)号:CN116189964A
公开(公告)日:2023-05-30
申请号:CN202211677083.9
申请日:2018-11-13
Applicant: 洛克技研工业株式会社
Inventor: 河添昭造
IPC: H01B5/14
Abstract: 提供一种ITO薄膜以及透明导电性薄膜,ITO薄膜在不进行退火处理的状态下提高非晶ITO膜的稳定性,电阻值随时间没有变化、提高防潮性和阻气性,并克服由弯曲引起的裂纹;透明导电性薄膜具有优异的导电性、透明性以及耐久性。本发明的ITO薄膜在具有挠性的基材的表面,形成有未进行退火处理的状态的非晶ITO膜,其特征在于,非晶ITO膜的膜厚在30nm~320nm的范围内,非晶ITO膜的表面电阻在9~105(Ω/□)的范围内。
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公开(公告)号:CN114686805A
公开(公告)日:2022-07-01
申请号:CN202111098599.3
申请日:2021-09-18
Applicant: 洛克技研工业株式会社
Inventor: 河添昭造
Abstract: 本发明提供一种树脂片材表面处理方法,能够使树脂片材的粘接面的表面不变粗糙地在粘接面上生成官能团,能够提高成膜工序中的薄膜对粘接面的密合力。本发明的树脂片材表面处理方法在使薄膜粘接于树脂片材(3)的表面的成膜工序之前,对于待粘接薄膜的树脂片材(3)的粘接面进行表面处理工序,向配置有电极(2)的真空室(1)内导入不活泼气体(10),将树脂片材(3)设为接地电位,通过周期性赋予负电位的高频电源(6)对电极(2)施加负电位。
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