光通讯Zr02陶瓷插芯精密加工用抛光液及其制备方法

    公开(公告)号:CN102504705B

    公开(公告)日:2014-07-09

    申请号:CN201110314587.X

    申请日:2011-10-17

    IPC分类号: C09G1/02

    摘要: 本发明公开一种光通讯ZrO2陶瓷插芯表面CMP抛光液及其制备方法,抛光液组成为:铈的氧化物0.5~12%、氧化铝0.1~4%、润湿调节剂0.01~0.1%、分散剂0.05~2%、分散稳定剂0.01~4%、辅助表面活性剂0.005~0.5%,余量为去离子水。制备时将铈的氧化物和氧化铝加入到搅拌分散器中,加入部分去离子水、润湿调节剂,搅拌均匀,加入其余添加剂和余量去离子水,继续搅拌,调节pH值至2~5,经超声波分散后即可。本发明的抛光液解决了传统CMP技术中使用单一无机磨料抛光效率和抛光精度不协调的矛盾,达到单一磨料无法达到的抛光效果,不仅提高了抛光效率,同时提高了抛光精度,具有良好的应用性能。