一种电-力刺激细胞培养装置

    公开(公告)号:CN104745471A

    公开(公告)日:2015-07-01

    申请号:CN201510128360.4

    申请日:2015-03-24

    Abstract: 本发明提供了一种电-力刺激细胞培养装置,包括细胞培养器和信号发生器,所述细胞培养器包括培养器基底,培养器基底上设有导电膜;在所述细胞培养器上方设有电-力刺激极板,电-力刺激极板包括上部的电-力刺激极板基底、中部的导电层和下部的压电刺激器;所述信号发生器的正极和负极分别连接电-力刺激极板上的导电层和细胞培养器上的导电膜。本发明在进行细胞培养时可为细胞培养器中的细胞和培养基提供电脉冲刺激;电-力刺激极板的压电刺激器在通电后,在电流作用下可产生微振动,给细胞提供相当于生物体内周围细胞蠕动的力刺激。本发明可真实地模拟生物体内部细胞受力环境,为细胞的体外培养提供更接近生物体内细胞生长的环境。

    一种掩膜电解加工微结构阵列的方法

    公开(公告)号:CN107717148B

    公开(公告)日:2019-04-12

    申请号:CN201610661385.5

    申请日:2016-08-14

    Abstract: 本发明提出一种掩膜电解加工微结构阵列的方法,属于电解加工领域。包括下列步骤:(a)制作掩膜成型的诱导装置。包括:1.在基底(1)上制作支架(2);2.基底(1)表面疏水处理,制作疏水层(3);3.涂覆聚合物(4);4.装配诱导装置;(b)诱导聚合物(4)图形化;(c)固化诱导成型的聚合物(4),在金属平板工件(5)上得到图形化聚合物(7);(d)电解加工微结构阵列。本发明采用电诱导结合超疏水工艺进行图形转移方法制作电解加工中的图形化掩膜结构,避免了图形之间聚合物在基底表面上的残留,保证了掩膜图形之间的金属裸露和后期的电解加工的顺利进行,工艺简单,成本低,效率高。

    一种电‑力刺激细胞培养装置

    公开(公告)号:CN104745471B

    公开(公告)日:2017-06-27

    申请号:CN201510128360.4

    申请日:2015-03-24

    Abstract: 本发明提供了一种电‑力刺激细胞培养装置,包括细胞培养器和信号发生器,所述细胞培养器包括培养器基底,培养器基底上设有导电膜;在所述细胞培养器上方设有电‑力刺激极板,电‑力刺激极板包括上部的电‑力刺激极板基底、中部的导电层和下部的压电刺激器;所述信号发生器的正极和负极分别连接电‑力刺激极板上的导电层和细胞培养器上的导电膜。本发明在进行细胞培养时可为细胞培养器中的细胞和培养基提供电脉冲刺激;电‑力刺激极板的压电刺激器在通电后,在电流作用下可产生微振动,给细胞提供相当于生物体内周围细胞蠕动的力刺激。本发明可真实地模拟生物体内部细胞受力环境,为细胞的体外培养提供更接近生物体内细胞生长的环境。

    一种电沉积装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105755526A

    公开(公告)日:2016-07-13

    申请号:CN201610253410.6

    申请日:2016-04-22

    CPC classification number: C25D21/10 C25D17/00

    Abstract: 本发明公开了一种用于电沉积的装置,包括电沉积槽、阴极、阴极移动杆,还包括齿轮、齿轮安装杆和搅拌桨。工作时,阴极移动杆在外力的作用下做水平往复运动,阴极移动杆上的齿条带动齿轮做正反圆周远动,齿轮带动搅拌桨做正反转圆周运动,这样电解液就会在搅拌桨的搅拌作用下快速流动起来,加之搅拌桨外缘位置与阴极面较近,因此,电解液在阴极表面的流场相对比较均匀,从而对电沉积过程中阴极电沉积层厚度的均匀性起到改善作用。

    一种用于电解加工超薄金属切割片防夹槽的装置

    公开(公告)号:CN106346094B

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201610832214.4

    申请日:2016-09-20

    Abstract: 本发明公开了一种用于电解加工超薄金属切割片防夹槽的装置,工件阳极同轴线固定于水平的旋转轴上,并且在驱动装置的驱动下旋转。工具阴极置于喷嘴中间与工件垂直正对安装,两阴极喷嘴通过合理的夹具使其对称于工件布置于工件两侧。两阴极喷嘴的进液口都与外部供液系统连接,电解加工电源的正极与负极分别通过合理的引电装置连接工件阳极和工具阴极。本发明采用两侧同时加工且工件阳极旋转的方式,能达到预期的加工效果,且喷嘴与工件阳极无沉积,工艺简单,操作方便。

    一种掩膜电解加工微结构阵列的方法

    公开(公告)号:CN107717148A

    公开(公告)日:2018-02-23

    申请号:CN201610661385.5

    申请日:2016-08-14

    CPC classification number: B23H9/008

    Abstract: 本发明提出一种掩膜电解加工微结构阵列的方法,属于电解加工领域。包括下列步骤:(a)制作掩膜成型的诱导装置。包括:1.在基底(1)上制作支架(2);2.基底(1)表面疏水处理,制作疏水层(3);3.涂覆聚合物(4);4.装配诱导装置;(b)诱导聚合物(4)图形化;(c)固化诱导成型的聚合物(4),在金属平板工件(5)上得到图形化聚合物(7);(d)电解加工微结构阵列。本发明采用电诱导结合超疏水工艺进行图形转移方法制作电解加工中的图形化掩膜结构,避免了图形之间聚合物在基底表面上的残留,保证了掩膜图形之间的金属裸露和后期的电解加工的顺利进行,工艺简单,成本低,效率高。

    一种加工微结构阵列的方法

    公开(公告)号:CN106319614A

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:CN201610837264.1

    申请日:2016-09-21

    CPC classification number: C25F3/14 B82Y40/00 C23F1/02

    Abstract: 本发明涉及一种加工微结构阵列的方法。所述方法包括以下几个步骤:(a)对待加工工件的表面进行疏水性处理;(b)在待加工工件固液界面上生成纳米气泡;(c)将化学腐蚀液或电解液通入待加工工件所处的水中,以纳米气泡作为掩膜进行化学或电化学腐蚀加工;(d)达到微结构加工要求后,停止化学或电化学腐蚀加工,取出工件,清洗、干燥。采用本发明所述的一种加工微结构阵列的方法,可以实现在大平面、三维曲面的工件表面上一次性获得大面积微结构阵列,加工工艺成本低,效率高,加工时间短。

    一种电沉积装置
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN205653533U

    公开(公告)日:2016-10-19

    申请号:CN201620343361.0

    申请日:2016-04-22

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于电沉积的装置,包括电沉积槽、阴极、阴极移动杆,还包括齿轮、齿轮安装杆和搅拌桨。工作时,阴极移动杆在外力的作用下做水平往复运动,阴极移动杆上的齿条带动齿轮做正反转圆周远动,齿轮带动搅拌桨做正反圆周运动,这样电解液就会在搅拌桨的搅拌作用下快速流动起来,加之搅拌桨外缘位置与阴极面较近,因此,电解液在阴极表面的流场相对比较均匀,从而对电沉积过程中阴极电沉积层厚度的均匀性起到改善作用。

    一种匀速直线往复搅拌装置

    公开(公告)号:CN206157243U

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201621088987.8

    申请日:2016-09-29

    Abstract: 本实用新型公开了一种匀速直线往复搅拌装置,包括电沉积槽、阳极、稳流板、溢流板和搅拌桨;还包括可移动阴极挂具、流液口和T形盖板。电沉积槽底部在阴极区的下方开设有凹槽;T形盖板设置于电沉积槽中在可移动阴极挂具和稳流板之间的上方;可移动阴极挂具上部开有流液口,其流液口位置在T形盖板和阴极顶端之间。此装置在工作时,搅拌桨在外驱动源下做匀速往复直线运动,通过电沉积槽底部凹槽、顶部T形盖板、阴极区顶部的流液口和搅拌桨的匀速往复直线的作用来改善阴极边缘电场和流场的均匀性,从而使沉积层厚度和化学成分更加均匀,并使整个沉积槽内的电解液获得匀速的搅拌效果。此装置极大地改善了沉积层厚度的均匀性,且装置简单可靠易于操作和实现。

Patent Agency Ranking