公开(公告)号：CN104073771B

公开(公告)日：2016-04-13

申请号：CN201410308148.1

申请日：2014-07-01

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 陈贵锋 ,  张辉 ,  曹哲 ,  王弘 ,  赵晓丽 ,  王雄涛 ,  王鹤 ,  门小云

IPC: C23C14/34

Abstract: 本发明公开的一种钼掺钠溅射靶材的制备方法，步骤如下：将高纯钼粉及钼酸钠粉末混合球磨后，加入PVA充分研磨获得混合粉末；用冷等静压方式将混合粉末均匀压制成靶坯；将靶坯封入真空石英管内，置于马弗炉中采用多段升温的方式烧结；机械加工获得钼掺钠溅射靶材。本发明采用先将靶坯封入真空石英管中再进行烧结的方法，既避免了如真空热压机等大型设备的使用，又可以将多个封有靶坯的真空石英管同一批次烧结处理，极大的节约了能源，降低了成本。此外，本发明采用多段升温的方式，使得靶坯中由PVA引入的C、H及O元素得到充分释放。本发明的方法工艺简单、能耗少且成本较低，Na的掺入含量可在较大范围内进行调控，有利于产业化的应用。

公开(公告)号：CN104073771A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201410308148.1

申请日：2014-07-01

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 陈贵锋 ,  张辉 ,  曹哲 ,  王弘 ,  赵晓丽 ,  王雄涛 ,  王鹤 ,  门小云

IPC: C23C14/34

Abstract: 本发明公开的一种钼掺钠溅射靶材的制备方法，步骤如下：将高纯钼粉及钼酸钠粉末混合球磨后，加入PVA充分研磨获得混合粉末；用冷等静压方式将混合粉末均匀压制成靶坯；将靶坯封入真空石英管内，置于马弗炉中采用多段升温的方式烧结；机械加工获得钼掺钠溅射靶材。本发明采用先将靶坯封入真空石英管中再进行烧结的方法，既避免了如真空热压机等大型设备的使用，又可以将多个封有靶坯的真空石英管同一批次烧结处理，极大的节约了能源，降低了成本。此外，本发明采用多段升温的方式，使得靶坯中由PVA引入的C、H及O元素得到充分释放。本发明的方法工艺简单、能耗少且成本较低，Na的掺入含量可在较大范围内进行调控，有利于产业化的应用。