公开(公告)号：CN102899611A

公开(公告)日：2013-01-30

申请号：CN201210044315.7

申请日：2012-02-27

Applicant: 河北农业大学

Inventor： 王会强 ,  孙维连 ,  邢艳秋 ,  李新领 ,  孙铂 ,  安广 ,  李颖 ,  程越

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/35

Abstract: 本发明提供一种利用中频反应磁控溅射在铝合金表面沉积ZrN薄膜的方法，其特征在于：功率为5kW，本底真空6.0×10-3Pa，靶材为270×70×5mm的对称Zr靶，工作气体Ar气和反应气体N2气的纯度99.99%，溅射气压3.0×10-1Pa，偏压150V，占空比80%；基体采用铝合金镜面板，使用前超声波清洗，清洗温度控制在50℃，清洗10min用丙酮擦拭，酒精漂洗吹干；将铝合金挂到真空炉悬架上，靶基距120mm，抽真空到6.0×10-3Pa后，Ar气辉光清洗，调压至3.0×10-3Pa；主轰击，加入N2气，调压至3.0×10-1Pa，进行沉积。本发明氮气流量为15sccm，镀膜温度为70℃，镀膜时间为30min，镀膜厚度为70nm时，在铝合金表面沉积出耐腐蚀、耐磨损、仿金色ZrN薄膜。