一种抗冲击高强韧层状梯度结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN119178363B

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202411676402.3

    申请日:2024-11-22

    Abstract: 本发明提出了一种抗冲击高强韧层状梯度结构,属于新材料领域,包括两个第一硬相层间隔设置;两个软相层夹设在两个第一硬相层层之间且间隔设置;第二硬相层夹设在两个软相层之间;第一硬相层包括软相结构及硬相结构,软相结构为网状机构且表面开设有若干网孔,硬相结构填充满各网孔。本发明采用仿珍珠层结构结合层间三明治结构,在传统仿珍珠层结构的层间软相间引入一层硬相,使得砖块层间形成“软‑硬‑软”的三明治结构,“砖‑泥”结构中硬相砖块提供了强度,软相灰泥具有优异的变形能力,硬相与软相排布方式可以将应力均匀分布,避免了应力集中,层间三明治结构引入了层间“软‑硬‑软”的协同模式,保证了结构整体的强度和韧性。

    可陶瓷化硅橡胶复合材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN113881233A

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:CN202111180454.8

    申请日:2021-10-11

    Abstract: 本发明涉及硅橡胶复合材料技术领域,具体涉及可陶瓷化硅橡胶复合材料及其制备方法和应用。本发明公开的可陶瓷化硅橡胶复合材料的原料包括,硅橡胶、氧化硼和/或硼酸、二氧化硅、氧化铝,其中,氧化硼和/或硼酸与硅橡胶的质量比为16~30:45~55。本发明的可陶瓷化硅橡胶复合材料在高温条件下具有良好的尺寸稳定性和力学性能;烧蚀产物在500~1000℃下能支撑两倍自重的载荷,在室温下残余强度优异,弯曲强度≥2.69MPa;在各温度下都具有优异的电绝缘性能,在500~1000℃烧蚀后体积电阻率≥8.7×1011Ω·cm。

    一种TPX基轻质高强微孔泡沫材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN112390977A

    公开(公告)日:2021-02-23

    申请号:CN201910764660.X

    申请日:2019-08-19

    Abstract: 本发明提供了一种TPX基轻质高强微孔泡沫材料及其制备方法,属于泡沫材料制备技术领域。该材料泡孔孔径为0.3‑30μm,且泡孔分布均匀,同时兼具轻质和强度高的优点。其制备:(1):TPX加热熔融后在30‑60MPa的压力下压制成型得TPX聚合物片材;(2):将上述TPX聚合物片材放入高压反应釜中,在高温高压条件下饱和一定时间,然后快速泄压,再将其骤冷至室温,即得TPX基轻质高强微孔泡沫材料。该制备方法工艺简单,易操作,有较好的可设计性,所制备的TPX基轻质高强微孔泡沫材料泡孔孔径小、密度低、力学性能较高,可广泛应用于医疗器械、电子电器、包装材料、薄膜材料等要求轻质、高强的领域。

    一种基于W-Fe-C体系腐蚀法制备多孔钨材料的方法

    公开(公告)号:CN111020329B

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN201911155317.1

    申请日:2019-11-22

    Abstract: 本发明涉及一种基于W‑Fe‑C体系腐蚀法制备多孔钨材料的方法,具体步骤如下:1)采用低温烧结形成复合块体:将钨粉、铁粉以及碳粉球磨均匀得到混合粉末,将所得混合粉末装入石墨磨具中,采用放电等离子烧结得到钨铁块体;2)利用化学腐蚀法腐蚀基体材料中的铁:将钨铁块体放入过量的稀硫酸溶液中,并将稀硫酸溶液加热至40~80℃,获得具有微米孔径的多孔钨生坯;3)采用高温烧结制备多孔钨:将步骤3)所得多孔钨生坯进行真空无压烧结得到多孔钨材料。本发明提供的多孔钨材料孔分布均匀,结构一致,没有明显的缺陷,孔隙率为25.8~78%,孔径为1~10μm,用途广泛。

    一种基于W-Fe-C体系腐蚀法制备多孔钨材料的方法

    公开(公告)号:CN111020329A

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201911155317.1

    申请日:2019-11-22

    Abstract: 本发明涉及一种基于W-Fe-C体系腐蚀法制备多孔钨材料的方法,具体步骤如下:1)采用低温烧结形成复合块体:将钨粉、铁粉以及碳粉球磨均匀得到混合粉末,将所得混合粉末装入石墨磨具中,采用放电等离子烧结得到钨铁块体;2)利用化学腐蚀法腐蚀基体材料中的铁:将钨铁块体放入过量的稀硫酸溶液中,并将稀硫酸溶液加热至40~80℃,获得具有微米孔径的多孔钨生坯;3)采用高温烧结制备多孔钨:将步骤3)所得多孔钨生坯进行真空无压烧结得到多孔钨材料。本发明提供的多孔钨材料孔分布均匀,结构一致,没有明显的缺陷,孔隙率为25.8~78%,孔径为1~10μm,用途广泛。

    一种钨合金的非自耗电弧熔炼制备方法

    公开(公告)号:CN106191479B

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201610519550.3

    申请日:2016-07-04

    Abstract: 本发明公开了一种钨合金的非自耗电弧熔炼制备方法,其包括钨粉的初步净化、冷压成型及预制块体制备、抽真空、通氩气和电弧熔炼步骤。本发明与现有技术相比,工艺简单、效率高、成本低,且有提纯效果,可制得纯度高,无明显气孔,致密度高(98.1%~99.2%)的超高比重钨合金(钨比重含量达99.7%~99.9%,比重最高可达19.11);可应用于电子工业、核工业、航空航天及动高压物理等领域。

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