具有场限环配置的X射线传感器

    公开(公告)号:CN113812005B

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN201980096350.3

    申请日:2019-05-14

    Abstract: 所提出的技术提供了一种X射线传感器(1),该X射线传感器具有有源检测器区,该有源检测器区包括布置在该X射线传感器(1)的表面区(3)上的多个检测器二极管(2)。该X射线传感器(1)进一步包括围绕包括该多个检测器二极管(2)的该表面区(3)的结终端(4)。该结终端(4)包括布置为最靠近该表面区(3)的端部的防护层(5)、布置在该防护层(5)外部的场截止层(6)和布置在该防护层(5)与该场截止层(6)之间的至少两个场限环FLR(7),其中,第一FLR(7)被布置在距该防护层(20)的距离Δ1处,该距离选自10区间[4μm;12μm],第二FLR(72)被布置在距该第一FLR(7)的距离Δ2处,该距离选自区间[6.5μm;14μm],并且其中,距离Δ2大于距离Δ1。所提出的技术还提供了一种用于构造这样的X射线传感器和X射线成像系统(100)的方法,该X射线成像系统包括X射线检测器系统(20),该X射线检测器系统包括至少一个这样的X射线传感器(1)。

    具有场限环配置的X射线传感器

    公开(公告)号:CN113812005A

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN201980096350.3

    申请日:2019-05-14

    Abstract: 所提出的技术提供了一种X射线传感器(1),该X射线传感器具有有源检测器区,该有源检测器区包括布置在该X射线传感器(1)的表面区(3)上的多个检测器二极管(2)。该X射线传感器(1)进一步包括围绕包括该多个检测器二极管(2)的该表面区(3)的结终端(4)。该结终端(4)包括布置为最靠近该表面区(3)的端部的防护层(5)、布置在该防护层(5)外部的场截止层(6)和布置在该防护层(5)与该场截止层(6)之间的至少两个场限环FLR(7),其中,第一FLR(7)被布置在距该防护层(20)的距离Δ1处,该距离选自10区间[4μm;12μm],第二FLR(72)被布置在距该第一FLR(7)的距离Δ2处,该距离选自区间[6.5μm;14μm],并且其中,距离Δ2大于距离Δ1。所提出的技术还提供了一种用于构造这样的X射线传感器和X射线成像系统(100)的方法,该X射线成像系统包括X射线检测器系统(20),该X射线检测器系统包括至少一个这样的X射线传感器(1)。

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