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公开(公告)号：CN103628060A
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201310572541.7
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开一种表面渗钼+沉积氮化钛的新型电极材料及其制备方法，利用等离子表面合金化和多弧离子镀复合处理技术，首先在铁基材料表面渗入合金元素钼，形成呈冶金结合的含钼渗层，然后利用溅射镀进行沉积氮化钛，以形成一种表面渗钼+沉积氮化钛的新型电极材料。本发明采用量大面广价格低廉的钢铁材料作为电极材料，具有加工性能好、导电性好、强度高、成本低的优点。表面经过渗钼和沉积氮化钛处理后具有耐腐蚀、耐磨、强度和硬度高、电阻率较小、结合力强的优点。能大幅度提高电极的比能量与比功率，接触电阻保持恒定，电能消耗稳定并且较小。
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公开(公告)号：CN103628055A
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201310572298.9
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: C23C24/10
Abstract: 本发明公开了一种在铝或铝合金表面激光熔覆稀土CeO2-镍基合金复合涂层的工艺，利用激光表面熔覆技术，在铝合金表面首先涂覆一层稀土CeO2-镍基自熔合金粉末，然后用激光扫描该粉末层，使得该粉末层熔融，并熔覆在铝合金表面，形成一层稀土CeO2-镍基自熔合金层熔覆层。本发明采用铝及铝合金作为基体材料，利用激光表面熔覆技术制备出高性能的稀土CeO2-镍基自熔合金熔覆层，使熔覆层与基体材料之间实现良好的冶金结合，提高材料的耐磨、耐蚀、抗氧化性等性能。
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公开(公告)号：CN103628023A
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201310572297.4
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: C23C14/06
Abstract: 本发明公开了一种在游标卡尺表面沉积CrN薄膜的工艺，它是在4Cr13不锈钢制造的游标卡尺表面，利用多弧离子镀或磁控溅射镀或射频溅射镀技术，首先沉积一定厚度的纯金属作为过渡层，之后，再通入反应气体氮气，形成致密的CrN薄膜。表面CrN层是一种硬质陶瓷薄膜，具有耐腐蚀、耐磨损、化学稳定性好、韧性良好、低应力和好的表面质量等优点，较大幅度的提高了游标卡尺产品的质量。
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公开(公告)号：CN103046073A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210556011.9
申请日：2012-12-20
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料及制备方法，它是利用电镀、电刷镀或化学镀和溅射镀技术，在铁基材料表面首先涂覆一定厚度的纯铜作为过渡层，再利用溅射镀技术沉积氮化物，以形成一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料。本发明采用铁基材料作为电极材料，具有加工性能好、导电性好、强度高、成本低。在其上面镀一层铜增加导电性，并作为过渡层增加表面氮化物层的膜基结合强度，表面的氮化物层具有耐腐蚀、耐磨、强度硬度高、电阻率较小的优点，能大幅度提高电极的比能量与比功率，接触电阻保持恒定，电能消耗稳定并且较小。
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公开(公告)号：CN103046073B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201210556011.9
申请日：2012-12-20
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料及制备方法，它是利用电镀、电刷镀或化学镀和溅射镀技术，在铁基材料表面首先涂覆一定厚度的纯铜作为过渡层，再利用溅射镀技术沉积氮化物，以形成一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料。本发明采用铁基材料作为电极材料，具有加工性能好、导电性好、强度高、成本低。在其上面镀一层铜增加导电性，并作为过渡层增加表面氮化物层的膜基结合强度，表面的氮化物层具有耐腐蚀、耐磨、强度硬度高、电阻率较小的优点，能大幅度提高电极的比能量与比功率，接触电阻保持恒定，电能消耗稳定并且较小。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103029370A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201210556119.8
申请日：2012-12-20
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种铁基、纯铜过渡层和表面纯金属钼或金属钨涂层的电极材料及制备方法，它是利用电刷镀或化学镀和溅射镀技术，在铁基材料表面首先涂覆一定厚度的纯铜作为过渡层，再利用溅射镀技术沉积金属钼或金属钨，以形成一种铁基、铜过渡层和表面金属钼或金属钨涂层的新型电极材料。本发明采用铁基材料作为电极材料，具有加工性能好、导电性好、强度高、成本低。在其上面镀一层铜增加导电性，并作为过渡层增加表面纯金属钼（或者金属钨）层的膜基结合强度，表面纯金属钼（或者金属钨）具有耐腐蚀、强度硬度较高、电阻率较小的优点，能大幅度提高电极的比能量与比功率，接触电阻保持恒定，电能消耗稳定并且较小。
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公开(公告)号：CN103643203B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201310572296.X
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种在铁基LED引线支架表面沉积铜+钨复合涂层的工艺，它是利用磁控溅射镀或多弧离子镀或射频溅射镀技术，在铁基引线支架表面首先沉积一定厚度的纯铜，之后，再沉积一层纯钨，形成铜+钨复合涂层。该技术可替代原来电镀铜，再电镀银的引线支架，具有导电、散热、防氧化、防潮、可焊性等方面的优良性能，涂层附着力好，制造成本低，彻底解决了电镀存在的环境污染问题。
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公开(公告)号：CN103628055B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201310572298.9
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: C23C24/10
Abstract: 本发明公开了一种在铝或铝合金表面激光熔覆稀土CeO2-Ni60合金复合涂层的工艺，利用激光表面熔覆技术，在铝合金表面首先涂覆一层稀土CeO2-Ni60自熔合金粉末，然后用激光扫描该粉末层，使该粉末层熔融，并熔覆在铝合金表面，形成一层稀土CeO2-Ni60自熔合金层熔覆层。本发明采用铝及铝合金作为基体材料，利用激光表面熔覆技术制备出高性能的稀土CeO2-Ni60自熔合金熔覆层，使熔覆层与基体材料之间实现良好的冶金结合，提高材料的耐磨、耐蚀、抗氧化性等性能。
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公开(公告)号：CN103029370B
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201210556119.8
申请日：2012-12-20
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种铁基、纯铜过渡层和表面纯金属钼或金属钨涂层的电极材料及制备方法，它是利用电刷镀或化学镀和溅射镀技术，在铁基材料表面首先涂覆一定厚度的纯铜作为过渡层，再利用溅射镀技术沉积金属钼或金属钨，以形成一种铁基、铜过渡层和表面金属钼或金属钨涂层的新型电极材料。本发明采用铁基材料作为电极材料，具有加工性能好、导电性好、强度高、成本低。在其上面镀一层铜增加导电性，并作为过渡层增加表面纯金属钼（或者金属钨）层的膜基结合强度，表面纯金属钼（或者金属钨）具有耐腐蚀、强度硬度较高、电阻率较小的优点，能大幅度提高电极的比能量与比功率，接触电阻保持恒定，电能消耗稳定并且较小。
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