公开(公告)号：CN120035880A

公开(公告)日：2025-05-23

申请号：CN202380072258.X

申请日：2023-12-01

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 奥野武志 ,  木下理裕 ,  桥爪瑞葵 ,  杨映保 ,  针谷香织 ,  后藤顺

IPC: H01L21/268 ,  B23K26/064 ,  G02B6/42 ,  H01L21/20

Abstract: 激光退火装置具备射出激光的光源以及供所述激光从一端部入射并传输所述激光而将激光从另一端部射出的多模的光纤，其中，激光退火装置具备具有振动头部的振动源，所述光纤配置于所述振动头部的安装面，激光退火装置具备支承部，该支承部覆盖配置于所述安装面的所述光纤的区域且将所述光纤支承并按压于所述安装面，所述光纤与和该光纤接触的所述支承部的振动传递率设定为比所述安装面与所述光纤的振动传递率小。

公开(公告)号：CN220474570U

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN202190000998.9

申请日：2021-12-23

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 小杉纯一 ,  针谷香织 ,  木下理裕

IPC: H01L21/20

Abstract: 提供能够提高改性为晶化用膜为止的生产效率且实现省空间化及低成本化的激光退火装置。所述激光退火装置具备射出脱氢化用激光束的脱氢化用光学头，所述脱氢化用光学头以使所述脱氢化用激光束先于所述晶化用激光束地照射所述非晶硅膜中的至少改性预定区域来进行所述非晶硅膜的脱氢化的方式，相对于所述非晶硅膜向所述扫描方向相对地进行移动。