公开(公告)号：CN114450433A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202080066846.9

申请日：2020-09-29

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 若林雅 ,  泷本政美 ,  野本将史

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/54 ,  H01L21/68

Abstract: 对准装置具备控制部(4)，其在掩模(11)与基板(12)的铅垂方向上的距离比相机(3)的景深前端距离长的情况下，一边使基板(12)进行高速接近移动一边基于基板标记(121)与掩模标记(112)的距离来调整掩模(11)与基板(12)的水平方向上的位置，在掩模(11)与基板(12)的铅垂方向上的距离为相机(3)的景深前端距离以下的情况下，一边使基板(12)比高速接近移动慢地进行接近移动一边基于基板标记(121)与掩模标记(112)的距离来调整掩模(11)与基板(12)的水平方向上的位置。

公开(公告)号：CN115349032A

公开(公告)日：2022-11-15

申请号：CN202180025079.1

申请日：2021-03-09

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 若林雅 ,  野本将史

IPC: C23C14/04 ,  H05B33/10 ,  H01L51/50

Abstract: 提供一种蒸镀掩模用框架，该蒸镀掩模用框架轻量并具有高刚性，且抑制脱气的产生。一个实施方式的蒸镀掩模用框架(50)具备构成为保持蒸镀掩模的框架主体(51)。框架主体是基材以及强化材料均由无机固体材料构成的复合材料。