公开(公告)号：CN114450433A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202080066846.9

申请日：2020-09-29

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 若林雅 ,  泷本政美 ,  野本将史

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/54 ,  H01L21/68

Abstract: 对准装置具备控制部(4)，其在掩模(11)与基板(12)的铅垂方向上的距离比相机(3)的景深前端距离长的情况下，一边使基板(12)进行高速接近移动一边基于基板标记(121)与掩模标记(112)的距离来调整掩模(11)与基板(12)的水平方向上的位置，在掩模(11)与基板(12)的铅垂方向上的距离为相机(3)的景深前端距离以下的情况下，一边使基板(12)比高速接近移动慢地进行接近移动一边基于基板标记(121)与掩模标记(112)的距离来调整掩模(11)与基板(12)的水平方向上的位置。

公开(公告)号：CN115349032A

公开(公告)日：2022-11-15

申请号：CN202180025079.1

申请日：2021-03-09

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 若林雅 ,  野本将史

IPC: C23C14/04 ,  H05B33/10 ,  H01L51/50

Abstract: 提供一种蒸镀掩模用框架，该蒸镀掩模用框架轻量并具有高刚性，且抑制脱气的产生。一个实施方式的蒸镀掩模用框架(50)具备构成为保持蒸镀掩模的框架主体(51)。框架主体是基材以及强化材料均由无机固体材料构成的复合材料。

公开(公告)号：CN113373411A

公开(公告)日：2021-09-10

申请号：CN202110255176.1

申请日：2021-03-09

Applicant: 株式会社昭和真空 ,  株式会社V 技术

Inventor： 塩野忠久 ,  长田佑介 ,  金子滉明 ,  若林雅 ,  铃木裕二

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/04

Abstract: 提供一种能够在确保蒸发的蒸镀材料的指向性的同时保持较高的成膜速率的蒸镀源单元、蒸镀源和蒸镀源用喷嘴。蒸镀源单元(1)是一种使蒸镀材料蒸镀到基板的表面上的蒸镀源单元(1)，其具有包括喷出口(21)的喷嘴(20)，所述喷出口(21)喷出加热的蒸镀材料，喷嘴(20)上形成有沿与该喷嘴(20)的延伸方向相同方向延伸的多个孔(20a)，该多个孔(20a)的一端部在喷出口(21)开口，孔(20a)的纵横比为2以上，孔(20a)的长度为分子的平均自由行程的1/5以下。