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公开(公告)号：CN102808166B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201210156431.8
申请日：2012-05-18
Applicant: 株式会社V技术
IPC: C23C16/448
Abstract: 一种原料气体发生装置，抑制原料气体的浓度降低。该原料气体发生装置（101）对容器（111）内的固体原料（102）进行加热，产生CVD加工用的原料气体。经由通气管（113）导入到容器（111）内的运载气体通过气体扩散部件（115）的扩散体（131）进行扩散，并从开口部（115A）向垂直下方向喷出。由固体原料102产生的原料气体与运载气体一起从固体原料（102）的上方经由通气管（116）向容器（111）之外排出。本发明例如可适用于产生CVD加工用的原料气体的原料气体发生装置。
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