公开(公告)号：CN103109355B

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201180043809.7

申请日：2011-09-09

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金雅然 ,  安秉寅 ,  申东穆

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B24B37/22

Abstract: 本发明涉及用于CMP的研磨垫，所述研磨垫具有如下形状：其中在平面上连接2个相邻凹处的3个或3个以上半椭圆或半圆曲线彼此相连接。所述研磨垫还包括具有预定厚度的改良图案。在所述研磨垫中，浆料可以在研磨过程中均匀地分散从而改善研磨均匀性，并且通过适当地调节浆料的停留时间从而提高研磨速率。

公开(公告)号：CN103109355A

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：CN201180043809.7

申请日：2011-09-09

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金雅然 ,  安秉寅 ,  申东穆

IPC: H01L21/304

CPC classification number: B24B37/22

Abstract: 本发明涉及用于CMP的研磨垫，所述研磨垫具有如下形状：其中在平面上连接2个相邻凹处的3个或3个以上半椭圆或半圆曲线彼此相连接。所述研磨垫还包括具有预定厚度的改良图案。在所述研磨垫中，浆料可以在研磨过程中均匀地分散从而改善研磨均匀性，并且通过适当地调节浆料的停留时间从而提高研磨速率。