公开(公告)号：CN102918110B

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：CN201180026405.7

申请日：2011-05-23

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 西山义隆 ,  田中裕之 ,  杉山智史 ,  真锅贵雄

IPC: C08L83/14 ,  C08L83/07 ,  C08K5/01 ,  C08K5/54 ,  C08G77/50 ,  H01L33/56

CPC classification number: C08L43/04 ,  C08G77/20 ,  C08G77/38 ,  C08K5/5425 ,  C08K2201/008 ,  C08L83/00 ,  C08L83/14 ,  C08L2201/02 ,  C08L2201/14 ,  C08L2203/206 ,  C08L2205/025 ,  H01L33/56

Abstract: 本发明的目的在于提供具有高耐热性、耐光性且气体阻隔性优异的聚硅氧烷类组合物，本发明的聚硅氧烷类组合物含有利用具有氢化甲硅烷基的化合物(b)对含链烯基的多面体结构聚硅氧烷类化合物(a)进行改性而得到的多面体结构聚硅氧烷改性体(A)，以及在一分子内具有两个以上链烯基的有机聚硅氧烷(B)，其中，所述组合物固化后的透湿率为30g/m2/24小时以下，且所述成分(B)的有机聚硅氧烷为含芳基的有机聚硅氧烷(B1)，和/或所述组合物进一步含有在一分子内具有一个链烯基或氢化甲硅烷基的有机硅化合物(C1)或者在一分子内具有一个碳-碳双键的环状烯烃化合物(C2)作为成分(C)。

公开(公告)号：CN116419848A

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN202180072077.8

申请日：2021-10-20

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 小川纮平 ,  片山敬介 ,  后裕之 ,  石黑文康 ,  杉山智史

IPC: B32B27/34

Abstract: 硬涂膜(10)在基材薄膜(1)的至少一个面具备硬涂层(2)。基材薄膜为包含聚酰亚胺树脂的聚酰亚胺薄膜，硬涂层由光固性树脂组合物的固化物形成。硬涂层及聚酰亚胺薄膜各自含有紫外线吸收剂，由此硬涂膜的硬度高并且耐光性优异。硬涂膜可以应用于配置于图像显示面板的视觉辨识侧表面的表面保护材料等。

公开(公告)号：CN104744944B

公开(公告)日：2017-12-19

申请号：CN201510102503.4

申请日：2011-05-23

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 西山义隆 ,  田中裕之 ,  杉山智史 ,  真锅贵雄

IPC: C08L83/07 ,  C08L83/14 ,  C08K5/5425 ,  C08K5/5435 ,  C08K3/36 ,  H01L33/56

CPC classification number: C08L43/04 ,  C08G77/20 ,  C08G77/38 ,  C08K5/5425 ,  C08K2201/008 ,  C08L83/00 ,  C08L83/14 ,  C08L2201/02 ,  C08L2201/14 ,  C08L2203/206 ,  C08L2205/025 ,  H01L33/56

Abstract: 本发明的目的在于提供具有高耐热性、耐光性且气体阻隔性优异的聚硅氧烷类组合物，本发明的聚硅氧烷类组合物含有利用具有氢化甲硅烷基的化合物(b)对含链烯基的多面体结构聚硅氧烷类化合物(a)进行改性而得到的多面体结构聚硅氧烷改性体(A)，以及在一分子内具有两个以上链烯基的有机聚硅氧烷(B)，其中，所述组合物固化后的透湿率为30g/m2/24小时以下，且所述成分(B)的有机聚硅氧烷为含芳基的有机聚硅氧烷(B1)，和/或所述组合物进一步含有在一分子内具有一个链烯基或氢化甲硅烷基的有机硅化合物(C1)或者在一分子内具有一个碳‑碳双键的环状烯烃化合物(C2)作为成分(C)。

公开(公告)号：CN104744944A

公开(公告)日：2015-07-01

申请号：CN201510102503.4

申请日：2011-05-23

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 西山义隆 ,  田中裕之 ,  杉山智史 ,  真锅贵雄

IPC: C08L83/07 ,  C08L83/14 ,  C08K5/5425 ,  C08K5/5435 ,  C08K3/36 ,  H01L33/56

CPC classification number: C08L43/04 ,  C08G77/20 ,  C08G77/38 ,  C08K5/5425 ,  C08K2201/008 ,  C08L83/00 ,  C08L83/14 ,  C08L2201/02 ,  C08L2201/14 ,  C08L2203/206 ,  C08L2205/025 ,  H01L33/56

Abstract: 本发明的目的在于提供具有高耐热性、耐光性且气体阻隔性优异的聚硅氧烷类组合物，本发明的聚硅氧烷类组合物含有利用具有氢化甲硅烷基的化合物(b)对含链烯基的多面体结构聚硅氧烷类化合物(a)进行改性而得到的多面体结构聚硅氧烷改性体(A)，以及在一分子内具有两个以上链烯基的有机聚硅氧烷(B)，其中，所述组合物固化后的透湿率为30g/m2/24小时以下，且所述成分(B)的有机聚硅氧烷为含芳基的有机聚硅氧烷(B1)，和/或所述组合物进一步含有在一分子内具有一个链烯基或氢化甲硅烷基的有机硅化合物(C1)或者在一分子内具有一个碳-碳双键的环状烯烃化合物(C2)作为成分(C)。

公开(公告)号：CN102918110A

公开(公告)日：2013-02-06

申请号：CN201180026405.7

申请日：2011-05-23

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 西山义隆 ,  田中裕之 ,  杉山智史 ,  真锅贵雄

IPC: C08L83/14 ,  C08L83/07 ,  C08K5/01 ,  C08K5/54 ,  C08G77/50 ,  H01L33/56

CPC classification number: C08L43/04 ,  C08G77/20 ,  C08G77/38 ,  C08K5/5425 ,  C08K2201/008 ,  C08L83/00 ,  C08L83/14 ,  C08L2201/02 ,  C08L2201/14 ,  C08L2203/206 ,  C08L2205/025 ,  H01L33/56

Abstract: 本发明的目的在于提供具有高耐热性、耐光性且气体阻隔性优异的聚硅氧烷类组合物，本发明的聚硅氧烷类组合物含有利用具有氢化甲硅烷基的化合物(b)对含链烯基的多面体结构聚硅氧烷类化合物(a)进行改性而得到的多面体结构聚硅氧烷改性体(A)，以及在一分子内具有两个以上链烯基的有机聚硅氧烷(B)，其中，所述组合物固化后的透湿率为30g/m2/24小时以下，且所述成分(B)的有机聚硅氧烷为含芳基的有机聚硅氧烷(B1)，和/或所述组合物进一步含有在一分子内具有一个链烯基或氢化甲硅烷基的有机硅化合物(C1)或者在一分子内具有一个碳-碳双键的环状烯烃化合物(C2)作为成分(C)。