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公开(公告)号：CN109690809B
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201780056058.X
申请日：2017-09-11
Applicant: 株式会社达文希斯
Abstract: 本发明涉及一种掩模清洗装置以及掩模清洗方法，其能够清洗残留在有机发光装置用金属掩模表面上的有机物。所述掩模清洗装置可以包括：真空腔室，在内部形成有能够收纳掩模的收纳空间，并且在内部形成真空环境，从而易于去除残留在所述掩模上的有机物；第一清洗光照射装置，能够向收纳于所述真空腔室中的所述掩模照射清洗光，从而在所述真空环境下对所述有机物施加光能，以便能够从所述掩模分解并分离所述有机物以进行去除；以及控制部，能够向所述第一清洗光照射装置提供脉冲波电源。
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公开(公告)号：CN105873710B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201480060801.5
申请日：2014-08-13
Applicant: 株式会社达文希斯
Abstract: 本发明涉及感应加热头，更详细而言，涉及一种用于熔融并供应金属材料的感应加热头。特别是涉及一种用于对供应的金属材料进行局部加热并以熔融的状态供应的感应加热头。本发明的感应加热头能够应用于钎焊、金属熔接、金属材料的3D打印等多样的技术领域。本发明的用于熔融并供应金属材料的感应加热头，包括用于电连接于高频电源的感应加热线圈和磁芯。所述磁芯为由磁性体构成的中空的筒形状，用于提供借助于所述感应加热线圈而感应的磁束的路径，且具备用于向中空的内部供应金属材料的入口部和用于排出供应的金属材料的出口部。本发明的感应加热头具备感应加热线圈和磁芯，能够使用于感应加热的磁束集束，按需要使金属材料准确熔融并供应。
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公开(公告)号：CN106148901B
公开(公告)日：2019-09-03
申请号：CN201610318159.7
申请日：2016-05-13
Applicant: 株式会社达文希斯
Abstract: 本发明的有机膜蒸镀装置处理采用焦耳加热方式的有机膜蒸镀工序。有机膜蒸镀装置利用两个施体基板在元件基板蒸镀有机膜。有机膜蒸镀装置包括蒸镀装置，涂覆有有机膜的第一施体基板或者元件基板被投入到蒸镀装置中并与形成有导电膜的第二施体基板对置，其中，蒸镀装置对涂覆有有机膜的第一施体基板的导电膜施加电场以产生焦耳热，从而将涂覆在第一施体基板上的有机膜蒸镀到第二施体基板，对蒸镀有有机膜的第二施体基板的导电膜施加电场以产生焦耳热，从而将蒸镀在第二施体基板上的有机膜蒸镀到元件基板。通过焦耳加热方式并利用第一及第二施体基板在元件基板形成有机膜，通过反复进行上述步骤，能够减少有机物损失，并能够缩短工序时间。
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公开(公告)号：CN102395691A
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN201080016822.9
申请日：2010-04-12
Applicant: 株式会社达文希斯
CPC classification number: C21D10/005 , C21D1/09 , C21D1/42 , C21D9/46 , C23C16/515 , C23C16/545 , Y02P10/253
Abstract: 本发明涉及表面处理方法及装置，更详细地讲，涉及利用等离子体离子处理导电性对象物的表面的方法及装置。本发明的目的是提供一种利用等离子体离子能够处理如金属板材或线材那样的连续供给的对象物的表面的处理装置及方法。根据本发明，提供如下等离子表面处理装置。该装置利用等离子处理导电性对象物的被处理部表面，其特征是，包括：连接装置，与所述对象物的被处理部电连接以便对所述对象物的被处理部施加负的脉冲电压；脉冲电压发生装置，与所述连接装置电连接；以及磁芯(magnetic core)，配置在所述对象物的被处理部的边界周围，阻断因施加到所述对象物的被处理部的负的脉冲电压而流经所述对象物的被处理部的电流脱出所述对象物的被处理部的边界流动。根据本发明的等离子表面处理装置及方法利用负的高电压脉冲和磁芯可限定电压所施加的区域。因此，可限定等离子表面处理部位。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102395691B
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201080016822.9
申请日：2010-04-12
Applicant: 株式会社达文希斯
CPC classification number: C21D10/005 , C21D1/09 , C21D1/42 , C21D9/46 , C23C16/515 , C23C16/545 , Y02P10/253
Abstract: 本发明涉及表面处理方法及装置，更详细地讲，涉及利用等离子体离子处理导电性对象物的表面的方法及装置。本发明的目的是提供一种利用等离子体离子能够处理如金属板材或线材那样的连续供给的对象物的表面的处理装置及方法。根据本发明，提供如下等离子表面处理装置。该装置利用等离子处理导电性对象物的被处理部表面，其特征是，包括：连接装置，与所述对象物的被处理部电连接以便对所述对象物的被处理部施加负的脉冲电压；脉冲电压发生装置，与所述连接装置电连接；以及磁芯(magnetic core)，配置在所述对象物的被处理部的边界周围，阻断因施加到所述对象物的被处理部的负的脉冲电压而流经所述对象物的被处理部的电流脱出所述对象物的被处理部的边界流动。根据本发明的等离子表面处理装置及方法利用负的高电压脉冲和磁芯可限定电压所施加的区域。因此，可限定等离子表面处理部位。
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公开(公告)号：CN106159115B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201610319941.0
申请日：2016-05-13
Applicant: 株式会社达文希斯
Abstract: 本发明的有机发光元件的连续式制造系统采用焦耳加热方式并利用两个施体基板在元件基板蒸镀有机膜。有机发光元件的连续式制造系统可以包括蒸镀装置，涂覆有有机膜的第一施体基板或者元件基板被投入蒸镀装置中并与形成有导电膜的第二施体基板对置，蒸镀装置对涂覆有有机膜的第一施体基板的导电膜施加电场以产生焦耳热，从而将涂覆在第一施体基板上的有机膜蒸镀到第二施体基板，对蒸镀有有机膜的第二施体基板的导电膜施加电场以产生焦耳热，从而将蒸镀在第二施体基板上的有机膜蒸镀到元件基板。通过焦耳加热方式并利用第一及第二施体基板在元件基板形成有机膜，通过反复进行上述处理，能够减少有机物的损失，并能够缩短工序时间。
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公开(公告)号：CN109690809A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201780056058.X
申请日：2017-09-11
Applicant: 株式会社达文希斯
Abstract: 本发明涉及一种掩模清洗装置以及掩模清洗方法，其能够清洗残留在有机发光装置用金属掩模表面上的有机物。所述掩模清洗装置可以包括：真空腔室，在内部形成有能够收纳掩模的收纳空间，并且在内部形成真空环境，从而易于去除残留在所述掩模上的有机物；第一清洗光照射装置，能够向收纳于所述真空腔室中的所述掩模照射清洗光，从而在所述真空环境下对所述有机物施加光能，以便能够从所述掩模分解并分离所述有机物以进行去除；以及控制部，能够向所述第一清洗光照射装置提供脉冲波电源。
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公开(公告)号：CN106159115A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201610319941.0
申请日：2016-05-13
Applicant: 株式会社达文希斯
Abstract: 本发明的有机发光元件的连续式制造系统采用焦耳加热方式并利用两个施体基板在元件基板蒸镀有机膜。有机发光元件的连续式制造系统可以包括蒸镀装置，涂覆有有机膜的第一施体基板或者元件基板被投入蒸镀装置中并与形成有导电膜的第二施体基板对置，蒸镀装置对涂覆有有机膜的第一施体基板的导电膜施加电场以产生焦耳热，从而将涂覆在第一施体基板上的有机膜蒸镀到第二施体基板，对蒸镀有有机膜的第二施体基板的导电膜施加电场以产生焦耳热，从而将蒸镀在第二施体基板上的有机膜蒸镀到元件基板。通过焦耳加热方式并利用第一及第二施体基板在元件基板形成有机膜，通过反复进行上述处理，能够减少有机物的损失，并能够缩短工序时间。
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