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发明公开
基板清洗方法、基板清洗装置、基板处理装置、基板处理系统及机器学习器无效

公开(公告)号：CN111029243A

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201910953017.1

申请日：2019-10-09

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 嶋昇平

IPC: H01L21/02 , H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够决定清洗工具的适当的更换时期的基板清洗方法、基板清洗装置、基板处理装置、基板处理系统及机器学习器。在本基板清洗方法中，通过一边向基板(W)供给清洗液，一边在存在清洗液的情况下使清洗工具(77、78)与基板(W)滑动接触，从而对基板(W)的表面进行清洗，在执行规定张数的基板(W)的表面的清洗后，使用原子力显微镜(91)取得表示处于湿润状态的清洗工具(77、78)的表面性状的至少一个表面数据，通过将该表面数据与预先决定的阈值进行比较，从而决定清洗工具(77、78)的更换时期。

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