公开(公告)号：CN117897803A

公开(公告)日：2024-04-16

申请号：CN202280057334.5

申请日：2022-12-07

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 关正也 ,  山田展也 ,  富田正辉

IPC: H01L21/677 ,  C25D19/00 ,  C25D7/12

Abstract: 本发明提高基板的搬运速度，并且抑制颗粒附着于基板的被处理面。一种搬运装置，其构成为在升降方向及与升降方向正交的行驶方向搬运基板，包括安装部件(710‑1)，该安装部件(710‑1)固定于第一模块框架(402A)的侧面，该第一模块框架(402A)用于设置具有基板搬入搬出口(404‑1～404‑8)的镀覆模块。安装部件(710‑1)包括多个行驶导轨(714‑1～714‑3)，该多个行驶导轨(714‑1～714‑3)配置于基板搬入搬出口(404‑1～404‑8)的升降方向的两侧，并沿行驶方向延伸。搬运装置包括：升降导轨(716)，其横跨多个行驶导轨(714‑1～714‑3)并沿升降方向延伸，能够沿着多个行驶导轨(714‑1～714‑3)移动；和搬运机器人(718)，其能够沿着升降导轨(716)升降，并具有用于保持基板的手部。

公开(公告)号：CN114752976B

公开(公告)日：2024-08-13

申请号：CN202210460141.6

申请日：2022-04-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 关正也 ,  矢作光敏 ,  山田展也

IPC: C25D5/00 ,  C25D7/12

Abstract: 提供对基板高效地进行前置处理的预湿模块、脱气液循环系统和预湿方法。预湿模块(200)包括：脱气槽(210)，其收容脱气液；处理装置(258)，其包括喷嘴(268)，其对被处理面向上的基板的被处理面供给清洗液；基板保持架(220)，其具有配置于脱气槽与处理装置之间且保持第1基板的第1保持构件(222)和保持第2基板的第2保持构件(224)；以及驱动机构(230)，其使基板保持架旋转和升降，驱动机构(230)包括：旋转机构(240)，其使基板保持架在使第1基板的被处理面与脱气槽内的脱气液相向的第1状态和使第2基板的被处理面与脱气槽内的脱气液相向的第2状态之间旋转；和升降机构(248)，其使基板保持架升降。

公开(公告)号：CN118843721A

公开(公告)日：2024-10-25

申请号：CN202380021794.7

申请日：2023-08-23

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 关正也 ,  富田正辉 ,  山田展也

IPC: C25D17/00 ,  C25D7/12 ,  C25D21/04 ,  H01L21/67

Abstract: 镀敷装置包括：基板搬运室(701)；风扇过滤单元(408)，配置于基板搬运室(701)的上方；镀敷室(401)，配置于基板搬运室(701)的侧面；排气室(702)，配置于基板搬运室(701)的下方；分隔部件(720)，将基板搬运室(701)和排气室(702)之间分隔；以及绕行流路(730)，以绕行分隔部件(720)的方式将基板搬运室(701)和排气室(702)连通，镀敷室(401)具有：供给口(404)，用于将通过风扇过滤单元(408)供给至基板搬运室(701)的气体供给至镀敷室(401)；以及排出口(405)，用于将供给至镀敷室(401)的气体向外部排出，排气室(702)具有排气口(703)，该排气口(703)用于将经由绕行流路(730)供给至排气室(702)的气体向外部排出。

公开(公告)号：CN114752976A

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN202210460141.6

申请日：2022-04-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 关正也 ,  矢作光敏 ,  山田展也

IPC: C25D5/00 ,  C25D7/12

Abstract: 提供对基板高效地进行前置处理的预湿模块、脱气液循环系统和预湿方法。预湿模块(200)包括：脱气槽(210)，其收容脱气液；处理装置(258)，其包括喷嘴(268)，其对被处理面向上的基板的被处理面供给清洗液；基板保持架(220)，其具有配置于脱气槽与处理装置之间且保持第1基板的第1保持构件(222)和保持第2基板的第2保持构件(224)；以及驱动机构(230)，其使基板保持架旋转和升降，驱动机构(230)包括：旋转机构(240)，其使基板保持架在使第1基板的被处理面与脱气槽内的脱气液相向的第1状态和使第2基板的被处理面与脱气槽内的脱气液相向的第2状态之间旋转；和升降机构(248)，其使基板保持架升降。

公开(公告)号：CN118756273A

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN202410826087.1

申请日：2022-04-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 关正也 ,  矢作光敏 ,  山田展也

IPC: C25D5/00 ,  C25D7/12

Abstract: 提供对基板高效地进行前置处理的预湿模块、脱气液循环系统和预湿方法。预湿模块(200)包括：脱气槽(210)，其收容脱气液；处理装置(258)，其包括喷嘴(268)，其对被处理面向上的基板的被处理面供给清洗液；基板保持架(220)，其具有配置于脱气槽与处理装置之间且保持第1基板的第1保持构件(222)和保持第2基板的第2保持构件(224)；以及驱动机构(230)，其使基板保持架旋转和升降，驱动机构(230)包括：旋转机构(240)，其使基板保持架在使第1基板的被处理面与脱气槽内的脱气液相向的第1状态和使第2基板的被处理面与脱气槽内的脱气液相向的第2状态之间旋转；和升降机构(248)，其使基板保持架升降。