公开(公告)号：CN103502318A

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：CN201280020940.6

申请日：2012-04-09

Applicant: 株式会社艾迪科

Inventor： 森田博 ,  小林纯 ,  横田洋大 ,  降幡泰久

IPC: C08G77/62 ,  C01B21/082 ,  C01B33/12 ,  C08K5/00 ,  C08L83/16 ,  C09D183/16 ,  H01L21/316

CPC classification number: H01L21/02164 ,  C01B21/087 ,  C08G77/62 ,  C08L83/16 ,  C09D1/00 ,  H01L21/02282 ,  H01L31/02167 ,  Y02E10/50

Abstract: 本发明提供一种在水蒸汽等氧化剂中的烧成工序中的收缩小、并且不易发生二氧化硅膜的龟裂以及与半导体基板的剥离的无机聚硅氮烷以及含有无机聚硅氮烷的二氧化硅膜形成用涂布液。本发明提供一种无机聚硅氮烷，其中，在1H-NMR光谱中，将4.75ppm以上且低于5.4ppm的范围的峰面积设定为A，将4.5ppm以上且低于4.75ppm的范围的峰面积设定为B，将4.2ppm以上且低于4.5ppm的范围的峰面积设定为C时，A/（B+C）的值为0.9～1.5，（A+B）/C的值为4.2～50，而且，根据聚苯乙烯换算值得到的质均分子量为2000～20000；本发明还提供含有该无机聚硅氮烷的二氧化硅膜形成用涂布液。

公开(公告)号：CN115151579B

公开(公告)日：2023-12-08

申请号：CN202180015284.X

申请日：2021-03-29

Applicant: 株式会社艾迪科

Inventor： 伊香贺贵之 ,  横田洋大 ,  竹内良智 ,  佐藤直美

IPC: C08F2/50 ,  C07D209/14

Abstract: 本发明的目的在于提供感度的稳定性优异的自由基聚合引发剂。本发明为一种自由基聚合引发剂，其是包含下述通式(A)所表示的化合物和酸成分的自由基聚合引发剂，上述酸成分的含量在上述通式(A)所表示的化合物及上述酸成分的合计中为1ppm以上且400ppm以下。(A表示碳原子数为6～20的芳香族环基，R31表示肟酯基，R3233表示肟酯基以外的自由基产生基，R 表示碳原子数为1～20的无取代或具有取代基的脂肪族烃基或碳原子数为6～20的无取代或具有取代基的含芳香族烃环的基团等，a表示1～20的整数，b表示0～20的整数，c表示0～20的整数。)

公开(公告)号：CN115151579A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202180015284.X

申请日：2021-03-29

Applicant: 株式会社艾迪科

Inventor： 伊香贺贵之 ,  横田洋大 ,  竹内良智 ,  佐藤直美

IPC: C08F2/50 ,  C07D209/14

Abstract: 本发明的目的在于提供感度的稳定性优异的自由基聚合引发剂。本发明为一种自由基聚合引发剂，其是包含下述通式(A)所表示的化合物和酸成分的自由基聚合引发剂，上述酸成分的含量在上述通式(A)所表示的化合物及上述酸成分的合计中为1ppm以上且400ppm以下。(A表示碳原子数为6～20的芳香族环基，R31表示肟酯基，R32表示肟酯基以外的自由基产生基，R33表示碳原子数为1～20的无取代或具有取代基的脂肪族烃基或碳原子数为6～20的无取代或具有取代基的含芳香族烃环的基团等，a表示1～20的整数，b表示0～20的整数，c表示0～20的整数。)