公开(公告)号：CN116419797B

公开(公告)日：2024-11-19

申请号：CN202180074874.X

申请日：2021-10-21

Applicant: 株式会社科特拉

Inventor： 平尾哲大 ,  户田阳介 ,  齐藤大树

IPC: F01N3/28 ,  F01N3/10 ,  B01J35/57 ,  B01J27/053 ,  B01D53/94

Abstract: 一种排气净化催化剂装置，具有基材110、上游侧下层涂层121、上游侧上层涂层122、下游侧下层涂层131以及下游侧上层涂层132，满足(i)和(ii)。(i)上游侧上层涂层122和下游侧下层涂层131中的Pt和/或Pd的浓度高于上游侧下层涂层121中的Pt和/或Pd的浓度、且高于下游侧上层涂层132中的Pt和/或Pd的浓度；(ii)上游侧下层涂层121和下游侧上层涂层132中的Rh的浓度高于上游侧上层涂层122中的Rh的浓度、且高于下游侧下层涂层131中的Rh的浓度。

公开(公告)号：CN116419797A

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN202180074874.X

申请日：2021-10-21

Applicant: 株式会社科特拉

Inventor： 平尾哲大 ,  户田阳介 ,  齐藤大树

IPC: B01J35/04

Abstract: 一种排气净化催化剂装置，具有基材110、上游侧下层涂层121、上游侧上层涂层122、下游侧下层涂层131以及下游侧上层涂层132，满足(i)和(ii)。(i)上游侧上层涂层122和下游侧下层涂层131中的Pt和/或Pd的浓度高于上游侧下层涂层121中的Pt和/或Pd的浓度、且高于下游侧上层涂层132中的Pt和/或Pd的浓度；(ii)上游侧下层涂层121和下游侧上层涂层132中的Rh的浓度高于上游侧上层涂层122中的Rh的浓度、且高于下游侧下层涂层131中的Rh的浓度。