铜合金
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103290253A

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN201310029795.4

    申请日:2013-01-25

    IPC分类号: C22C9/00

    CPC分类号: C22C9/00 C22F1/08

    摘要: 提供一种强度与导电性的平衡优越,进而强度与弯曲加工性的平衡也优越的铜合金板。本发明的铜合金含有规定量的Cr、Ti、Si,所述Cr与所述Ti的质量比:1.0≤(Cr/Ti)≤30,所述Cr与所述Si的质量比:3.0≤(Cr/Si)≤30,余量由铜及不可避杂质构成,其要旨在于,所述铜合金中所含的Cr、Ti及Si的合计量中的70%以上析出,并且所述铜合金的宽度方向横截面中从所述铜合金表面计算,在厚度方向25μm×横截面方向40μm的区域内由SEM观察的当量圆直径为300nm以上的析出物在50个以下,且在所述铜合金板的表面中由TEM观察的当量圆直径不到300nm的析出物的平均当量圆直径在15nm以下。

    电气电子部件用铜合金
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104775048B

    公开(公告)日:2017-06-16

    申请号:CN201510019630.8

    申请日:2015-01-15

    发明人: 隅野裕也

    IPC分类号: C22C9/00 H01B1/02

    摘要: 本发明的课题在于提高电气电子部件用铜合金、特别是Cu‑Cr‑Ti‑Si系合金的耐应力松弛特性。本发明的Cu‑Cr‑Ti‑Si系合金含有Cr:0.15~0.4质量%、Ti:0.005~0.15质量%、Si:0.01~0.05质量%,余量由Cu及不可避免的杂质构成,不可避免的杂质中S、O、C的含量为S:0.005质量%以下、O:0.005质量%以下、C:0.004质量%以下,且S、O、C的合计为0.007质量%以下。根据需要,还含有以总量计为0.001~1.0质量%以下的Zn、Sn、Mg中的1种以上。

    铜合金
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103290253B

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201310029795.4

    申请日:2013-01-25

    IPC分类号: C22C9/00

    CPC分类号: C22C9/00 C22F1/08

    摘要: 提供一种强度与导电性的平衡优越,进而强度与弯曲加工性的平衡也优越的铜合金板。本发明的铜合金含有规定量的Cr、Ti、Si,所述Cr与所述Ti的质量比:1.0≤(Cr/Ti)≤30,所述Cr与所述Si的质量比:3.0≤(Cr/Si)≤30,余量由铜及不可避杂质构成,其要旨在于,所述铜合金中所含的Cr、Ti及Si的合计量中的70%以上析出,并且所述铜合金的宽度方向横截面中从所述铜合金表面计算,在厚度方向25μm×横截面方向40μm的区域内由SEM观察的当量圆直径为300nm以上的析出物在50个以下,且在所述铜合金板的表面中由TEM观察的当量圆直径不到300nm的析出物的平均当量圆直径在15nm以下。

    铜合金
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106148753A

    公开(公告)日:2016-11-23

    申请号:CN201610150835.4

    申请日:2016-03-16

    IPC分类号: C22C9/00

    CPC分类号: C22C9/00

    摘要: 实现显示高强度、高导电性及优异的弯曲加工性并且显示比以往更优异的耐应力松弛特性的铜合金。该铜合金以质量%计含有Cr:0.15~0.4%、Si:0.01~0.1%、以及选自Ti和Zr中的至少1种元素:共计0.005~0.15%,余量由铜及不可避免的杂质构成,并且利用X射线小角散射法测定的析出物的粒度分布的平均粒子直径为2.0nm以上且7.0nm以下,且上述粒度分布的标准化方差为30~40%的范围。

    电气电子部件用铜合金
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104775048A

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201510019630.8

    申请日:2015-01-15

    发明人: 隅野裕也

    IPC分类号: C22C9/00 H01B1/02

    摘要: 本发明的课题在于提高电气电子部件用铜合金、特别是Cu-Cr-Ti-Si系合金的耐应力松弛特性。本发明的Cu-Cr-Ti-Si系合金含有Cr:0.15~0.4质量%、Ti:0.005~0.15质量%、Si:0.01~0.05质量%,余量由Cu及不可避免的杂质构成,不可避免的杂质中S、O、C的含量为S:0.005质量%以下、O:0.005质量%以下、C:0.004质量%以下,且S、O、C的合计为0.007质量%以下。根据需要,还含有以总量计为0.001~1.0质量%以下的Zn、Sn、Mg中的1种以上。