成膜装置及成膜方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105189810A

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201480027855.1

    申请日:2014-03-31

    Abstract: 提供一种仅将磁铁单元和靶材替换就能够对应于基材的尺寸变更的成膜装置。本发明的成膜装置(1)是使用与基材(W)的正面对置的蒸发源(2)对被输送的基材(W)的表面进行成膜的装置,蒸发源(2)具有靶材(7)、背板(8)、磁铁单元(9)、阴极体(10)和冷却水流路(12)。冷却水流路(12)是磁铁单元(9)与背板(8)分离而形成的空间,冷却水能够在该空间中流通。作为磁铁单元(9),可以对应于比基材(W)窄幅的窄幅基材而配备短尺寸的尺寸者,作为靶材(7),对应于配备的磁铁单元(9)的宽度而配备短尺寸的尺寸者。

    成膜装置及成膜方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105189810B

    公开(公告)日:2017-09-29

    申请号:CN201480027855.1

    申请日:2014-03-31

    Abstract: 提供一种仅将磁铁单元和靶材替换就能够对应于基材的尺寸变更的成膜装置。本发明的成膜装置(1)是使用与基材(W)的正面对置的蒸发源(2)对被输送的基材(W)的表面进行成膜的装置,蒸发源(2)具有靶材(7)、背板(8)、磁铁单元(9)、阴极体(10)和冷却水流路(12)。冷却水流路(12)是磁铁单元(9)与背板(8)分离而形成的空间,冷却水能够在该空间中流通。作为磁铁单元(9),可以对应于比基材(W)窄幅的窄幅基材而配备短尺寸的尺寸者,作为靶材(7),对应于配备的磁铁单元(9)的宽度而配备短尺寸的尺寸者。

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