半导体装置及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119480804A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202410987045.6

    申请日:2024-07-23

    Abstract: 本发明提供半导体装置及其制造方法。半导体装置(1)具备半导体衬底和设在半导体衬底的第1主面(2a)上的凸状的图案构造(6);沿着第1方向距第1侧面(3a)为第1规定距离(D1)内的图案构造(6)和沿着第1方向距第2侧面(3b)为第1规定距离(D1)内的图案构造(6)相对于在第2方向上延伸的线是对称的;沿着第2方向距第3侧面(3c)为第2规定距离(D2)内的图案构造(6)和沿着第2方向距第4侧面(3d)为第2规定距离(D2)内的图案构造(6)相对于在第1方向上延伸的线是对称的。

    半导体装置及其制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118522688A

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202410176805.5

    申请日:2024-02-08

    Abstract: 提供半导体装置及其制造方法。半导体装置具有元件区域和感测区域。元件区域内的栅极型开关元件具有多个栅极沟槽、栅极电极和将栅极电极的上表面覆盖的层间绝缘层。感测区域内的温度感测二极管具有阳极区域、阴极区域、设在上述阳极区域内的多个第1伪沟槽、配置在上述各第1伪沟槽内的第1绝缘层、设在上述阴极区域内的多个第2伪沟槽、和配置在上述各第2伪沟槽内的第2绝缘层。在具有开关元件和温度感测二极管的半导体装置中,适当地形成有层间绝缘层。

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