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公开(公告)号：CN1891865A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200610088638.0
申请日：2006-04-28
Applicant: 株式会社电装
Inventor： 松田茂树
IPC: C25D11/36
CPC classification number: C25D9/04
Abstract: 本发明提供一种可以在60秒，优选30秒或更短时间内形成适用于冷锻基的膜的磷化工艺。该工艺使用这样一种处理浴，其是由将锌溶解在磷酸中制备的磷酸盐离子溶液(H2PO4－+Zn2+)形成的，含磷酸(H3PO4)、磷酸根离子、锌离子和硝酸根离子，并可以含选自镍离子、钴离子、铜离子、锰离子和铁离子中的至少一种金属离子，还包含0.5g/l或更少的除成膜组分以外的金属离子。该工艺包括通过在作为正极的金属和作为负极的处理过的制品之间施加电压进行的电解处理并在处理过的制品的表面上形成磷酸盐膜。通过将锌溶解在磷酸(H2PO4－+Zn2+)中制备的磷酸盐离子溶液是通过将8质量份到最大溶解度的锌溶解在100质量份的磷酸中获得的溶液。
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公开(公告)号：CN1381616A
公开(公告)日：2002-11-27
申请号：CN02105245.X
申请日：2002-02-22
Applicant: 株式会社电装
IPC: C25D11/36
Abstract: 本发明涉及通过在磷酸盐化学处理浴中对金属物品进行电解处理,在该物品的表面上形成由磷酸盐化合物和从离子状态还原和沉淀的金属所组成的膜的一种方法,该电解处理通过使金属材料与磷酸盐化学处理浴进行接触而实现,该磷酸盐化学处理浴含有磷酸根离子和磷酸、硝酸根离子、可与磷酸根离子形成配合物的金属离子,以及溶解－沉淀平衡电位等于或大于－830mV的金属离子,并且基本上不含有与属于膜的组分的那些金属不同的金属离子,在所述的溶解－沉淀平衡电位下已溶解在该磷酸盐化学处理浴中的离子会还原和沉淀为金属,当以氢标准电极电位指示时,该电位是呈现水形式的溶剂的阴极反应分解电位;其中相对于标准氢电极的电位,该磷酸盐化学处理浴的氧化－还原电位ORP保持在等于或大于700mV。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1293720A
公开(公告)日：2001-05-02
申请号：CN99804171.8
申请日：1999-12-17
Applicant: 株式会社电装
IPC: C25D11/36
CPC classification number: C25D11/36
Abstract: 本发明提供了一种适应于电解处理的磷酸盐化学处理技术,其中使用一种至少含有磷酸根离子和磷酸、硝酸根离子、与磷酸盐化学处理浴液中的磷酸根离子络合的金属离子的磷酸盐化学处理浴液,和溶解在磷酸盐化学处理浴液中的、以金属形式还原和沉积的电位是等于或大于以水形成的溶剂的阳极电解反应的电位的金属离子;除了薄膜成份之外的其它金属离子在处理浴液中的浓度为0～400ppm,并且在处理浴液中完全不含有影响薄膜形成反应的固体。
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公开(公告)号：CN1247826C
公开(公告)日：2006-03-29
申请号：CN02105245.X
申请日：2002-02-22
Applicant: 株式会社电装
IPC: C25D11/36
Abstract: 本发明涉及通过在磷酸盐化学处理浴中对金属物品进行电解处理，在该物品的表面上形成由磷酸盐化合物和从离子状态还原和沉淀的金属所组成的膜的一种方法，该电解处理通过使金属材料与磷酸盐化学处理浴进行接触而实现，该磷酸盐化学处理浴含有磷酸根离子和磷酸、硝酸根离子、可与磷酸根离子形成配合物的金属离子，以及溶解-沉淀平衡电位等于或大于-830mV的金属离子，并且基本上不含有与属于膜的组分的那些金属不同的金属离子，在所述的溶解-沉淀平衡电位下已溶解在该磷酸盐化学处理浴中的离子会还原和沉淀为金属，当以氢标准电极电位指示时，该电位是呈现水形式的溶剂的阴极反应分解电位；其中相对于标准氢电极的电位，该磷酸盐化学处理浴的氧化-还原电位ORP保持在等于或大于700mV。
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公开(公告)号：CN1221687C
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN99804171.8
申请日：1999-12-17
Applicant: 株式会社电装
IPC: C25D11/36
CPC classification number: C25D11/36
Abstract: 本发明提供了一种适用于电解处理的磷酸盐化学处理技术，其中使用一种磷酸盐化学处理液，所述的磷酸盐化学处理液至少含有磷酸根离子和磷酸、硝酸根离子、与磷酸盐化学处理液中的磷酸根离子络合的金属离子，和溶解在磷酸盐化学处理液中的、其以金属形式被还原和沉积的电位大于等于水溶剂的阳极电解反应的电位的金属离子；除了薄膜成分之外的其它金属离子在处理液中的浓度为0～400ppm，并且在处理液中完全不含有影响薄膜形成反应的固体。
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公开(公告)号：CN101104946B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200610138967.1
申请日：2006-07-14
Applicant: 株式会社电装
Inventor： 松田茂树
Abstract: 本发明提供通过在尽可能低的电压下引起大的电流流动而形成薄膜和能提高效率的电解磷化处理方法。即，本发明提供用于形成薄膜的电解磷化处理方法，通过使用D.C.电源在作为电极的与处理液中硝酸盐金属相同的金属和工件间进行电解，形成含有从硝酸盐和磷酸盐沉淀的金属的薄膜，处理液包括磷酸，作为能够在磷酸溶液中溶解和离解磷酸的金属的锌、铁或锰；溶解金属硝酸盐以形成薄膜组分的溶液，其中除硝酸根离子外的阴离子和除形成薄膜组分的金属离子外的金属离子不多于0.5g/L，从硝酸盐溶解的金属离子多于10g/L，磷酸和磷酸根离子不多于由硝酸盐溶解的金属离子的1/2。
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公开(公告)号：CN101104946A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200610138967.1
申请日：2006-07-14
Applicant: 株式会社电装
Inventor： 松田茂树
Abstract: 本发明提供通过在尽可能低的电压下引起大的电流流动而形成薄膜和能提高效率的电解磷化处理方法。即，本发明提供用于形成薄膜的电解磷化处理方法，通过使用D.C.电源在作为电极的与处理液中硝酸盐金属相同的金属和工件间进行电解，形成含有从硝酸盐和磷酸盐沉淀的金属的薄膜，处理液包括磷酸，作为能够在磷酸溶液中溶解和离解磷酸的金属的锌、铁或锰；溶解金属硝酸盐以形成薄膜组分的溶液，其中除硝酸根离子外的阴离子和除形成薄膜组分的金属离子外的金属离子不多于0.5g/l，从硝酸盐溶解的金属离子多于10g/l，磷酸和磷酸根离子不多于由硝酸盐溶解的金属离子的1/2。
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