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公开(公告)号：CN101025966A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200710005944.8
申请日：2007-02-15
申请人： 株式会社理光
摘要： 本发明提供了一种双层可记录光学记录介质，包括：第一信息层；置于所述第一信息层上的中间层；以及置于所述中间层上的第二信息层，从激光照射侧依次沉积所述第一信息层、中间层和第二信息层，其中所述第一信息层从所述激光照射侧至少包括：包含Bi作为主成分的薄膜、电介质层、反射层和热扩散层，所述第二信息层从所述激光照射侧至少包括：包含Bi作为主成分的薄膜、电介质层和反射层，且其中所述第二信息层的电介质层的厚度(t2)与第一信息层的电介质层的厚度(t1)之比t2/t1的范围为0.7至1.5或者4.5至6.0。
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公开(公告)号：CN116729809A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310232526.1
申请日：2023-03-06
申请人： 株式会社理光
摘要： 本发明涉及涉及收容器及收容体。本发明的目的在于，提供一种能够顺利地进行循环型再利用、减少识别码的读取错误、适于零售销售的收容器。本发明的收容器包括容器主体，以及将收容物密闭在所述容器主体内的盖，在所述盖的上面具有识别码，所述容器主体包含多个凹部，具有面积比所述识别码大的像，所述识别码的显示部和非显示部的漫反射率之差比所述像部分和非像部分的漫反射率的差大。
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公开(公告)号：CN100577436C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200580043011.7
申请日：2005-12-13
申请人： 株式会社理光
摘要： 本发明提供一次写入多次读取的光记录介质，从激光束入射平面起依次包含基底、含铋和铋的氧化物中的任何一种的记录层、上涂层和反射层，其中当将激光施加到该基底的平坦部分上时，上述一次写入多次读取的光记录介质的反射率为35%或更低；或者下述一次写入多次读取的光记录介质，从激光束入射平面起依次包含基底、底涂层、含铋和铋的氧化物中的任何一种的记录层、上涂层和反射层，其中当将激光施加到该基底的平坦部分上时，上述一次写入多次读取的光记录介质的反射率为35%或更低。
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公开(公告)号：CN100450783C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200580001454.X
申请日：2005-08-30
申请人： 株式会社理光
摘要： 一种一次写入多次读取光学记录介质，其能够在蓝色激光波长或更短的波长在，即500nm或更小波长下，特别在邻近405nm的波长下表现出优异的记录-再现性能和高密度记录。为此，本发明的一次写入多次读取光学记录介质包括使用由BiOx(0＜x＜1.5)表示的材料的记录层，其中记录标记包含Bi晶体和/或Bi氧化物晶体。另一种一次写入多次读取光学记录介质包括含有Bi、氧、和M(M表示选自Mg、Al、Cr、Mn、Co、Fe、Cu、Zn、Li、Si、Ge、Zr、Ti、Hf、Sn、Mo、V、Nb、Y、和Ta的至少一种元素)的记录层，其中记录标记包括含在该记录层中的元素的晶体和该元素的氧化物的晶体。
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公开(公告)号：CN101496105B
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：CN200780028420.9
申请日：2007-07-27
申请人： 株式会社理光
CPC分类号： G11B7/2433 , G11B7/0062 , G11B7/24079 , G11B7/2437 , G11B7/2585 , G11B7/259 , G11B2007/24306 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/2432
摘要： 提供一种可记录光学记录介质，其包含：基板、记录层以及反射层，其中该记录层和该反射层形成于该基板上，该记录层由无机材料形成，以及利用通过照射蓝色激光导致的在该记录层的不可逆变化，信息记录在该可记录光学记录介质上。
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公开(公告)号：CN101512642A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780032441.8
申请日：2007-08-30
申请人： 株式会社理光
IPC分类号： G11B7/0045 , G11B7/125 , G11B7/24 , G11B7/243
摘要： 一种记录方法，包含：通过CAV、ZCLV或PCAV在能够使用蓝色激光进行记录和再现的一次写入多次读取光学记录介质上进行记录，其中含有记录脉冲的激光发射图案包含两个或更多个不同水平的记录功率，且由所述激光发射图案和参考时钟标准化的激光发射时间与记录线速度无关地被固定。
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公开(公告)号：CN101191194A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：CN200610130966.2
申请日：2006-11-22
申请人： 株式会社理光
CPC分类号： C23C14/3414 , C23C14/085 , C23C14/086 , G11B7/266
摘要： 提供一种用于形成可记录光学记录介质的记录层的溅射靶，其中该溅射靶包括Bi和Fe，且该溅射靶的堆积密度高于96％，还提供一种利用该溅射靶制造的可记录光学记录介质，该可记录光学记录介质即使在蓝色激光波长范围内也能够进行高密度记录。
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公开(公告)号：CN101080327A
公开(公告)日：2007-11-28
申请号：CN200580043011.7
申请日：2005-12-13
申请人： 株式会社理光
摘要： 本发明提供一次写入多次读取的光记录介质，从激光束入射平面起依次包含基底、含铋和铋的氧化物中的任何一种的记录层、上涂层和反射层，其中当将激光施加到该基底的平坦部分上时，上述一次写入多次读取的光记录介质的反射率为35％或更低；或者下述一次写入多次读取的光记录介质，从激光束入射平面起依次包含基底、底涂层、含铋和铋的氧化物中的任何一种的记录层、上涂层和反射层，其中当将激光施加到该基底的平坦部分上时，上述一次写入多次读取的光记录介质的反射率为35％或更低。
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公开(公告)号：CN115003490A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202080093596.8
申请日：2020-12-17
申请人： 株式会社理光
发明人： 藤井俊茂
IPC分类号： B29C64/393 , A41G3/00 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , B33Y80/00 , B29C64/106 , B29C64/209 , B29C64/232 , B29C64/295 , B29C64/321 , B29C64/379 , B33Y40/00 , B33Y70/10
摘要： 该成形设备包括成形单元，该成形单元通过成形材料在安装在成形台上的成形目标上形成成形产品，并将成形材料排出到成形目标上；以及控制单元，该控制单元基于成形目标的特征值来控制该成形目标和成形单元之间的距离。
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公开(公告)号：CN101191194B
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：CN200610130966.2
申请日：2006-11-22
申请人： 株式会社理光
CPC分类号： C23C14/3414 , C23C14/085 , C23C14/086 , G11B7/266
摘要： 提供一种用于形成可记录光学记录介质的记录层的溅射靶，其中该溅射靶包括Bi和Fe，且该溅射靶的堆积密度高于96％，还提供一种利用该溅射靶制造的可记录光学记录介质，该可记录光学记录介质即使在蓝色激光波长范围内也能够进行高密度记录。
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