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公开(公告)号:CN114026663A
公开(公告)日:2022-02-08
申请号:CN202080045641.2
申请日:2020-08-04
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 提供一种包含MXene和金属材料的导电性材料,其能够表现出存在于MXene的表面的修饰或末端T的效果,并且MXene的厚度方向上的导电性提高。所述导电性材料包含层状材料和金属材料,所述层状材料包含一个层或多个层,上述层包含由式MmXn表示的层主体和存在于该层主体的表面的修饰或末端T,式MmXn中,M为至少1种第3、4、5、6、7族金属,X为碳原子、氮原子或它们的组合,n为1以上且4以下,m大于n且为5以下,T为选自羟基、氟原子、氯原子、氧原子和氢原子中的至少1种,上述金属材料部分地被覆上述层状材料而构成多个粒子。
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公开(公告)号:CN117981013A
公开(公告)日:2024-05-03
申请号:CN202280064743.8
申请日:2022-08-19
Applicant: 株式会社村田制作所
Inventor: 小柳雅史
Abstract: 提供一种含导电性二维粒子的组合物,其对于形成显示高电导率,且能够长期维持高电导率的例如导电性膜有用,并提供所述导电性膜和含导电性二维粒子的组合物的制造方法。所述含导电性二维粒子的组合物,包含:含有1个或多个层的层状材料的导电性二维粒子;相对介电常数大于水的分散介质,所述1个或多个层包括:由下式:MmXn表示的层主体(式中,M是至少一种的第3、4、5、6、7族金属,X是碳原子、氮原子或它们的组合,n为1以上且4以下,m大于n并在5以下);存在于该层主体的表面的修饰或末端T(T是从羟基、氟原子、氯原子、氧原子和氢原子所构成的群中选择的至少一种),所述导电性二维粒子具有氟元素和氧元素。
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公开(公告)号:CN116710160A
公开(公告)日:2023-09-05
申请号:CN202280009465.6
申请日:2022-01-04
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: A61M1/36
Abstract: 提供一种吸附材料,含MXene,例如与极性有机化合物的吸附性能优异。所述吸附材料含有:包括1个或多个层的层状材料的粒子;从Al、Mg、Ca、Ba、Fe、Zn、Mn和Cu所构成的群中选择的一种以上的金属原子,所述层包括:由下式:MmXn表示的层主体(式中,M是至少一种的第3、4、5、6、7族金属,X是碳原子、氮原子或它们的组合,n为1以上且4以下,m为大于n并在5以下);存在于该层主体表面的修饰或末端T(T是从羟基、氟原子、氯原子、氧原子和氢原子所构成的群中选择的至少一种),所述层的M与从氯原子、磷原子、碘原子和硫原子所构成的群中选择的至少一种相结合。
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公开(公告)号:CN114026663B
公开(公告)日:2023-07-07
申请号:CN202080045641.2
申请日:2020-08-04
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 提供一种包含MXene和金属材料的导电性材料,其能够表现出存在于MXene的表面的修饰或末端T的效果,并且MXene的厚度方向上的导电性提高。所述导电性材料包含层状材料和金属材料,所述层状材料包含一个层或多个层,上述层包含由式MmXn表示的层主体和存在于该层主体的表面的修饰或末端T,式MmXn中,M为至少1种第3、4、5、6、7族金属,X为碳原子、氮原子或它们的组合,n为1以上且4以下,m大于n且为5以下,T为选自羟基、氟原子、氯原子、氧原子和氢原子中的至少1种,上述金属材料部分地被覆上述层状材料而构成多个粒子。
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公开(公告)号:CN115989555A
公开(公告)日:2023-04-18
申请号:CN202180052265.4
申请日:2021-08-23
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: H01G11/30
Abstract: 提供一种导电性二维粒子及其制造方法,氯与溴的合计含有率在一定水平以下,适合无卤素用途,此外不用使用粘合剂就能够形成高导电性薄膜。上述导电性二维粒子,是至少包含1个层的层状材料的导电性二维粒子,所述层包括:由下式:MmXn(式中,M是至少一种的第3、4、5、6、7族金属,X是碳原子、氮原子或其组合,n为1以上且4以下,m大于n并在5以下)表示的层主体;存在于该层主体表面的修饰或末端T(T是从羟基、氟原子、氯原子、氧原子和氢原子所构成的群中选择的至少一种),含有单价的金属离子,不含胺,氯与溴的合计含有率为1500质量ppm以下,所述导电性二维粒子的二维面的长径的平均值为1.0μm以上且20μm以下。
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公开(公告)号:CN118043914A
公开(公告)日:2024-05-14
申请号:CN202280065525.6
申请日:2022-08-05
Applicant: 株式会社村田制作所
Inventor: 小柳雅史
IPC: H01B5/00 , B01J47/018 , B01J47/12 , C01B32/921 , H01B1/00 , H01B1/22
Abstract: 提供一种导电性二维粒子,其含有MXene,能够形成长期显示高电导率的导电性膜。所述导电性二维粒子,是含有1个或多个层的层状材料的导电性二维粒子,其中,所述层包括:由下式:MmXn表示的层主体(式中,M是至少一种的第3、4、5、6、7族金属,X是碳原子、氮原子或它们的组合,n为1以上且4以下,m大于n并在5以下);存在于该层主体的表面的修饰或末端T(T是从羟基、氟原子、氧原子和氢原子所构成的群中选择的至少一种),不含氯原子、碘原子和溴原子,具有从氟原子、氧原子和羟基所构成的群中选择的至少一种,一个层的层主体的钛原子与另一个层的层主体的钛原子,经由氧原子进行结合。
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公开(公告)号:CN115151509A
公开(公告)日:2022-10-04
申请号:CN202180016119.6
申请日:2021-02-25
Inventor: 栁町章麿 , 小柳雅史 , 小河佑介 , 路易西耶·韦尔热 , 米歇尔·W·巴尔苏姆
IPC: C01B32/907 , H01B1/14
Abstract: 本申请提供了一种糊料,所述糊料包含在氨水溶液中的包括一个或多个层的层状材料的粒子,所述层包括:由MmXn表示的层本体,其中M是第3、4、5、6或7族的至少一种金属,X是碳原子、氮原子或其组合,n为不小于1且不大于4,并且m为大于n但不大于5;和在所述层本体的表面上存在的修饰或末端T,其中T是选自由以下各项组成的组中的至少一种:羟基、氟原子、氯原子、氧原子和氢原子,其中当在所述糊料的固形分浓度为1.0质量%的条件下进行测量时,所述糊料在1/s的剪切速度下显示出1Pa·s以上的粘度。
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公开(公告)号:CN117980264A
公开(公告)日:2024-05-03
申请号:CN202280063061.5
申请日:2022-09-16
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: C01B32/921 , C09D5/24 , C09D7/62 , C09D201/00 , H01B1/20
Abstract: 本发明其目的在于,实现可以提供即使在高湿条件下也能够维持高电导率的导电性膜的二维粒子以及这种二维粒子的制造方法。本发明的二维粒子,具有1个或多个层,含有金属阳离子,该层包括:由下式:MmXn表示的层主体(式中,M是至少一种的第3、4、5、6、7族金属,X是碳原子、氮原子或它们的组合,n为1以上且4以下,m大于n并在5以下);存在于该层主体的表面的修饰或末端T(T是从羟基、氟原子、氯原子、氧原子和氢原子中选择的至少一种),修饰或末端T含氯原子,或者,层的M与从PO43-、I和SO42-中选择的至少一种结合,金属阳离子包括元素周期表的第3周期至第5周期的金属的阳离子的至少一种,Li的含有率低于0.002质量%。
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公开(公告)号:CN115151509B
公开(公告)日:2024-07-16
申请号:CN202180016119.6
申请日:2021-02-25
Inventor: 栁町章麿 , 小柳雅史 , 小河佑介 , 路易西耶·韦尔热 , 米歇尔·W·巴尔苏姆
IPC: C01B32/907 , H01B1/14
Abstract: 本申请提供了一种糊料,所述糊料包含在氨水溶液中的包括一个或多个层的层状材料的粒子,所述层包括:由MmXn表示的层本体,其中M是第3、4、5、6或7族的至少一种金属,X是碳原子、氮原子或其组合,n为不小于1且不大于4,并且m为大于n但不大于5;和在所述层本体的表面上存在的修饰或末端T,其中T是选自由以下各项组成的组中的至少一种:羟基、氟原子、氯原子、氧原子和氢原子,其中当在所述糊料的固形分浓度为1.0质量%的条件下进行测量时,所述糊料在1/s的剪切速度下显示出1Pa·s以上的粘度。
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公开(公告)号:CN116887914A
公开(公告)日:2023-10-13
申请号:CN202280010993.3
申请日:2022-01-24
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: B01J20/02
Abstract: 提供一种含MXene,例如对极性有机化合物的吸附性能优异的吸附材料。所述吸附材料,包含具有1个或多个层的层状材料的粒子和Li,所述层包括:由下式:MmXn表示的层主体(式中,M是至少一种的第3、4、5、6、7族金属,X是碳原子、氮原子或它们的组合,n为1以上且4以下,m为大于n并在5以下);存在于该层主体的表面的修饰或末端T(T是从羟基、氟原子、氯原子、氧原子和氢原子所构成的群中选择的至少一种),所述粒子的厚度的平均值为1nm以上且10nm以下,Li含量为0.0001质量%以上且0.0020质量%以下。
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