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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112088311B
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN201980004351.0
申请日：2019-01-23
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N35/02
Abstract: 在对重复使用的反应容器内进行清洗时，虽然在用清洗针头吸引前进行粗吸，但由于粗吸后的液量与清洗针头的位置、大小的个体差异导致清洗液残留，有可能对分析结果造成影响。本发明提供一种自动分析装置，使用光来分析试料，清洗机构包括：将清洗液提供给分析后的反应容器的清洗液供给喷嘴；对所提供的清洗液进行吸引的清洗液吸引喷嘴；设置于清洗液吸引喷嘴的下端的清洗针头；在用清洗针头进行吸引前预先对反应容器内的液体进行吸引的粗吸喷嘴，在粗吸后，使液体残留以使得反应容器的底面不露出。
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公开(公告)号：CN110352355B
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201880013806.0
申请日：2018-02-27
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N35/10
Abstract: 本发明以防止污染产生为技术问题，其特征在于，包括：对收纳检体(M2)的反应容器(V)，以规定的喷出压力喷出试剂(M1)的试剂喷嘴(H)；根据试剂(M1)的液量以及试剂(M1)的粘性来控制试剂喷嘴(H)的水平位置的控制部；将试剂(M1)分注至反应容器(V)的分注部；检体(M2)；以及对照射至与试剂(M1)的混合物的光进行检测的光度计，在试剂(M1)的液量比检体(M2)的量要多且试剂(M1)的粘性与检体(M2)的粘性同等或比检体(M2)的粘性要低的情况下，控制部使试剂喷嘴(H)的水平位置位于反应容器(V)的中心位置。
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公开(公告)号：CN117242352A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202280032583.9
申请日：2022-02-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N35/04
Abstract: 在输送砖(120)内，在容器支架(100)不停止的位置的正下方的磁极(707A、707B、707C、707E、707G)和容器支架(100)停止的位置的正下方的磁极(707、707D、707G)中，线圈(706、706B、706C、706D、706E、706F、706G)、线圈轴(705、705A、705C、705D、705E、705F、705G)中的任一方的规格不同。由此，提供能够在抑制消耗电力的同时进行稳定输送的检体输送装置、检体分析系统以及检体的输送方法。
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公开(公告)号：CN112088311A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201980004351.0
申请日：2019-01-23
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N35/02
Abstract: 在对重复使用的反应容器内进行清洗时，虽然在用清洗针头吸引前进行粗吸，但由于粗吸后的液量与清洗针头的位置、大小的个体差异导致清洗液残留，有可能对分析结果造成影响。本发明提供一种自动分析装置，使用光来分析试料，清洗机构包括：将清洗液提供给分析后的反应容器的清洗液供给喷嘴；对所提供的清洗液进行吸引的清洗液吸引喷嘴；设置于清洗液吸引喷嘴的下端的清洗针头；在用清洗针头进行吸引前预先对反应容器内的液体进行吸引的粗吸喷嘴，在粗吸后，使液体残留以使得反应容器的底面不露出。
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公开(公告)号：CN110352355A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201880013806.0
申请日：2018-02-27
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N35/10
Abstract: 本发明以防止污染产生为技术问题，其特征在于，包括：对收纳检体(M2)的反应容器(V)，以规定的喷出压力喷出试剂(M1)的试剂喷嘴(H)；根据试剂(M1)的液量以及试剂(M1)的粘性来控制试剂喷嘴(H)的水平位置的控制部；将试剂(M1)分注至反应容器(V)的分注部；检体(M2)；以及对照射至与试剂(M1)的混合物的光进行检测的光度计，在试剂(M1)的液量比检体(M2)的量要多且试剂(M1)的粘性与检体(M2)的粘性同等或比检体(M2)的粘性要低的情况下，控制部使试剂喷嘴(H)的水平位置位于反应容器(V)的中心位置。
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