电子射线应用装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112106166B

    公开(公告)日:2024-02-20

    申请号:CN201880093381.9

    申请日:2018-05-21

    Abstract: 在光激发电子源中,在以透过具有特定的厚度和折射率的透明基板为前提设计成最适合的聚光透镜中,若透明基板不同,就不能使激发光的焦点良好地形成在光电膜上。因此,在光电阴极(1)与聚光透镜(2)之间,配置在激发光的波长下具有与光电阴极的基板的折射率相等的折射率的光球面像差校正板(21)。或者,设置使向聚光透镜照射的平行光发散或会聚的光球面像差校正器(20)。由此,可抑制电子束的闪耀,能实现光激发电子源的高亮度化。

    电子射线应用装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112106166A

    公开(公告)日:2020-12-18

    申请号:CN201880093381.9

    申请日:2018-05-21

    Abstract: 在光激发电子源中,在以透过具有特定的厚度和折射率的透明基板为前提设计成最适合的聚光透镜中,若透明基板不同,就不能使激发光的焦点良好地形成在光电膜上。因此,在光电阴极(1)与聚光透镜(2)之间,配置在激发光的波长下具有与光电阴极的基板的折射率相等的折射率的光球面像差校正板(21)。或者,设置使向聚光透镜照射的平行光发散或会聚的光球面像差校正器(20)。由此,可抑制电子束的闪耀,能实现光激发电子源的高亮度化。

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