公开(公告)号：CN103348439B

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201180067087.9

申请日：2011-11-02

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 细谷幸太郎 ,  大野正臣 ,  波多野治彦

IPC: H01J37/20

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2003

Abstract: 不是环境控制式电子线装置，即使通常的电子线装置也能实现试样附近的局部低真空化与试样冷却，并且不对装置进行改造且不追加气缸等设备而只利用试样支架实现试样附近的局部低真空化与试样冷却。在能将成为气体源的物质收纳在内部的容器与在该容器的试样台下部具备贯通孔的试样支架上载置被观察试样，通过上述贯通孔将从上述容器蒸发或挥发的气体供给到上述被观察试样，在上述被观察试样的载置位置或试样附近形成局部的低真空状态。并且，利用在挥发时的气化热也能进行试样冷却。

公开(公告)号：CN103348439A

公开(公告)日：2013-10-09

申请号：CN201180067087.9

申请日：2011-11-02

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 细谷幸太郎 ,  大野正臣 ,  波多野治彦

IPC: H01J37/20

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2003

Abstract: 不是环境控制式电子线装置，即使通常的电子线装置也能实现试样附近的局部低真空化与试样冷却，并且不对装置进行改造且不追加气缸等设备而只利用试样支架实现试样附近的局部低真空化与试样冷却。在能将成为气体源的物质收纳在内部的容器与在该容器的试样台下部具备贯通孔的试样支架上载置被观察试样，通过上述贯通孔将从上述容器蒸发或挥发的气体供给到上述被观察试样，在上述被观察试样的载置位置或试样附近形成局部的低真空状态。并且，利用在挥发时的气化热也能进行试样冷却。