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公开(公告)号：CN107249453B
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201680011178.3
申请日：2016-02-19
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
Abstract: 提供一种匀场方法，在该匀场方法中，根据磁场测量值假定虚拟地配置且包围测量位置的电流面，通过电流电位再现能够再现测量磁场的电流分布(或磁矩分布)，并包含该再现的该磁场分布。在预先确定好的闭合曲面上推定对由磁场测量装置取得的磁场分布进行再现那样的磁矩或者电流分布，根据所推定的所述磁矩或者电流分布推定在所述闭合曲面内存在的任意点的磁场分布。并且，基于所推定的所述磁场分布，输出产生用于修正所述任意点的磁场分布的匀场磁性体的分布。
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公开(公告)号：CN107205688B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201680007258.1
申请日：2016-01-27
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
Abstract: 本发明的特征在于，测量具备磁场调整机构的磁场发生装置内的预先决定的评价区域的磁场分布，上述磁场调整机构通过配置磁矩来调整静磁场，计算上述测量出的磁场分布与上述评价区域的预先决定的目标磁场强度的差即误差磁场分布，在将上述误差磁场分布分解为通过奇异值分解得到的由上述磁场发生装置产生的磁场的各固有模式的成分时，将上述固有模式中的低次模式的成分的修正与高次模式的成分的修正进行组合，来进行用于对上述误差磁场分布近似地进行修正的上述磁矩的配置的计算，上述低次模式为按照奇异值从大到小的顺序向各固有模式赋予的固有模式编号从第1固有模式编号至通过第一阈值确定的固有模式编号为止的固有模式群，上述高次模式为比上述第一阈值大的固有模式群，上述高次模式的成分的修正量小于上述低次模式的成分的修正量。
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公开(公告)号：CN107205689B
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201680007259.6
申请日：2016-01-27
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055 , G01R33/3873
Abstract: 即使在垫片托盘的各位置可配置的磁性体片的量具有限制，也可达成高的磁场均匀度，为此测量静磁场发生装置生成的静磁场的分布，计算静磁场的分布与目标磁场之间的误差磁场，一边使目标磁场在预定的磁场范围内变化，一边分别计算在垫片托盘的多个位置中的一个以上的位置配置了磁性体片时可达到的磁场均匀度。选择垫片托盘的各位置的磁性体片的量为预定的上限值以下且可达到的磁场均匀度为预定值以下的目标磁场，在垫片托盘中配置与该目标磁场相对应的磁性体片的量。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN102665542B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201080053192.2
申请日：2010-11-24
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: A61B5/055
CPC classification number: G01R33/3873 , G01R33/3875
Abstract: 将测量出的误差磁场分布分解为通过奇值分解得到的固有模式成分，将与各模式对应的铁片配置进行组合，配置在垫片盘上。通过到达可能的磁场精度（均一度）和铁片配置量的适当性来选择要进行修正的固有模式。能够一边把握能够达到的磁场精度（均一度）一边进行调整，因此能够把握错误的调整，此外在重复调整的过程中，能够自动地进行修正。通过实施例1和实施例2的方法、内置有该方法的装置的支援，进行磁场调整时，可靠地在重复进行磁场调整的作业中结束。其结果能够提供磁场精度良好的装置。此外，通过调查到达可能均一度，能够较早地检测不良的磁铁。能够在作为开放型MRI的垂直磁场型的磁铁装置以及水平磁场型MRI的磁铁装置中应用。
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公开(公告)号：CN101030471B
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN200710004294.5
申请日：2007-01-22
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G01R33/3873 , G01R33/3806 , G01R33/3815
Abstract: 本发明提供一种还可使远离超导线圈而设置的强磁性体磁饱和并减少因磁不饱和引起的强磁性体的磁化不均匀、可缩短均匀磁场调节所需作业时间的电磁铁装置。在一种通过隔着均匀磁场区域(4)而相对的一对超导主线圈(6)、隔着均匀磁场区域(4)而相对并流有与超导主线圈(6)相反电流的一对超导屏蔽线圈(7)以及隔着均匀磁场区域(4)而相对且外周为圆形的一对第一强磁性体(23)，从而在均匀磁场区域(4)中形成均匀磁场的电磁铁装置中，其特征在于，还具有一对第二强磁性体(34)，它们配置成隔着均匀磁场区域(4)而相对并与第一强磁性体(23)的均匀磁场区域(4)侧的相反侧相接或邻近且外周为比第一强磁性体(23)的圆形直径(d2、d4)大的圆形。
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公开(公告)号：CN100573182C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200610126464.2
申请日：2006-08-31
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G01R33/421 , G01R33/3806
Abstract: 本发明涉及磁铁装置，它能有效地抑制进入由相面对地配置的一对主线圈形成的静磁场的摄像空间的外部磁场。本发明的磁铁装置，具备相面对地配置并形成静磁场空间(3)的一对主线圈(9)、(10)和与主线圈同轴地配置的外部磁场屏蔽线圈，该外部磁场屏蔽线圈具有线圈耦合系数较小的第一线圈组(11)和线圈耦合系数比第一线圈组更大的第二线圈组(12)，并串连连接上述第一线圈组和上述第二线圈组。
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公开(公告)号：CN105358054B
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：CN201480038679.1
申请日：2014-06-24
Applicant: 株式会社日立制作所
Inventor： 阿部充志
IPC: A61B5/055 , G01R33/387 , H01F7/20 , H01F41/00
CPC classification number: G01R33/3873 , A61B5/055 , G01R33/3875 , G01R33/5659 , H01F7/202
Abstract: 磁场调整作业支持装置对表示误差磁场分布和调整磁矩的配置分布之间的关系的响应矩阵进行奇异值分解，从所得到的多个固有模式中按照该奇异值从大到小的顺序逐一地追加并选择固有模式，作为上述固有模式的次数的函数图，即折线图(1)在显示装置上显示剩余磁场误差，该剩余磁场误差表示通过与该固有模式对应的调整磁矩的配置而产生的磁场分布与上述误差磁场分布之间的差的变动幅度。
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