公开(公告)号：CN104387410A

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：CN201410535623.9

申请日：2009-08-21

Applicant: 株式会社日本触媒

Inventor： 萩原祐二 ,  越智刚敬 ,  大畠和信 ,  笠原泰祐 ,  鸟羽健人 ,  水田圭一郎 ,  胜山裕大 ,  石田知史 ,  西田俊文

IPC: C07F5/02

CPC classification number: C07F9/65688 ,  C07D233/58 ,  C07F5/02 ,  C07F5/022 ,  H01B1/122

Abstract: 本发明提供了与以往的方法相比，能够在稳定的条件下、收率良好地或者更廉价地制备含有四氰基硼酸盐的离子性化合物的制备方法。本发明的制备方法，为通过使含有氰化物、和硼化合物的起始原料反应，以制备用下述通式(I)表示的离子性化合物的方法，其中，通式(I)中，Ktm+表示有机或者无机阳离子，m表示1-3的整数。

公开(公告)号：CN102124014A

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN200980132280.9

申请日：2009-08-21

Applicant: 株式会社日本触媒

Inventor： 萩原祐二 ,  越智刚敬 ,  大畠和信 ,  笠原泰祐 ,  鸟羽健人 ,  水田圭一郎 ,  胜山裕大 ,  石田知史 ,  西田俊文

IPC: C07F5/02 ,  H01B1/06

CPC classification number: C07F9/65688 ,  C07D233/58 ,  C07F5/02 ,  C07F5/022 ,  H01B1/122

Abstract: 本发明提供了与以往的方法相比，能够在稳定的条件下、收率良好地或者更廉价地制备含有四氰基硼酸盐的离子性化合物的制备方法；以及杂质含量降低的含有四氰基硼酸盐的离子性化合物。本发明的离子性化合物，相对于100mol％的用下述通式(I)表示的离子性化合物，含有氟原子的杂质的含量是3mol％以下；所谓的本发明的制备方法，为通过使含有氰化物、和硼化合物的起始原料反应，以制备用下述通式(I)表示的离子性化合物的方法。(通式(I)中，Ktm+表示有机或者无机阳离子，m表示1-3的整数)。