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公开(公告)号：CN107614550B
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN201680032307.7
申请日：2016-06-02
Applicant: 株式会社日本触媒
IPC: C08F220/10 , C08F2/18 , C08F2/44 , C08F220/20 , C08J3/22 , C08J5/18 , C08L23/00 , C08L33/04 , C08L101/00
Abstract: 本发明的目的在于提供用于薄膜用的防粘连剂时，从薄膜的脱落被高度抑制的有机聚合物微粒。本发明的有机聚合物微粒的特征在于，其为用双官能交联性单体交联的(甲基)丙烯酸类聚合物，其中，在交联的(甲基)丙烯酸类聚合物中，基于双官能交联性单体的结构单元为5质量％以上、35质量％以下，沉降开始时间为16秒以上，通过高频电感耦合等离子体(ICP)发光分光分析法测定的Al含量、硫原子含量分别为1ppm以下、300ppm以下，并且，含有受阻酚类抗氧化剂或其来源成分。
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公开(公告)号：CN110387007A
公开(公告)日：2019-10-29
申请号：CN201910322521.1
申请日：2019-04-19
Applicant: 株式会社日本触媒
IPC: C08F220/14 , C08F222/14 , C08J3/22 , C08L23/12 , C08L33/12 , C08J5/18 , B32B27/32 , B32B27/30 , B32B27/08 , B32B27/06
Abstract: 本发明提供了能够降低薄膜的摩擦，并且减小从薄膜表面上脱落的微粒的平均体积的乙烯基聚合物微粒。该乙烯基聚合物微粒的特征在于满足以下(1)～(3)，(1)粒径的变异系数以体积基准计为30％以上；(2)体积平均粒径的1.7倍以上2.5倍以下的乙烯基聚合物微粒的比例以个数基准计为0.040％以下；(3)体积平均粒径为3.7μm以上。
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公开(公告)号：CN103827148B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201280046793.X
申请日：2012-09-27
Applicant: 株式会社日本触媒
Inventor： 中谷泰隆
IPC: C08F2/18 , G02B5/02 , G02F1/13357 , G02F1/1339
CPC classification number: G02B5/0268 , C08F230/08 , G02B5/0242
Abstract: 本发明提供具有规定的粒度分布、同时减少了粗大粒子的数量的适合作为薄膜用添加剂的乙烯基聚合物微粒、以及该微粒的制备方法。此外，本发明提供含有上述微粒的树脂组合物、由该树脂组合物得到的光学薄膜以及光扩散薄膜。本发明的乙烯基聚合物微粒的以体积为基准的粒径的变异系数为10%以上，具有体积平均粒径的2倍以上的粒径的粗大粒子的数量在100万个微粒中为180个以下。
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公开(公告)号：CN103827148A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201280046793.X
申请日：2012-09-27
Applicant: 株式会社日本触媒
Inventor： 中谷泰隆
IPC: C08F2/18 , G02B5/02 , G02F1/13357 , G02F1/1339
CPC classification number: G02B5/0268 , C08F230/08 , G02B5/0242
Abstract: 本发明提供具有规定的粒度分布、同时减少了粗大粒子的数量的适合作为薄膜用添加剂的乙烯基聚合物微粒、以及该微粒的制备方法。此外，本发明提供含有上述微粒的树脂组合物、由该树脂组合物得到的光学薄膜以及光扩散薄膜。本发明的乙烯基聚合物微粒的以体积为基准的粒径的变异系数为10%以上，具有体积平均粒径的2倍以上的粒径的粗大粒子的数量在100万个微粒中为180个以下。
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公开(公告)号：CN1660855A
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN200410047171.6
申请日：2004-12-17
Applicant: 株式会社日本触媒
IPC: C07F5/05
CPC classification number: C07F5/022
Abstract: 在合成由化学式2表示的烷基环硼氮烷化合物的方法中，通过由化学式1表示的卤代环硼氮烷化合物与格氏试剂反应合成得到烷基环硼氮烷化合物，然后用水洗涤合成的烷基环硼氮烷化合物，或者升华纯化或蒸馏纯化至少三次，和/或蒸馏纯化至少两次。在化学式中，R1独立地代表烷基；R2独立地代表烷基；和X代表卤素原子。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102924491A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201210402445.3
申请日：2006-01-28
Applicant: 株式会社日本触媒
CPC classification number: C07F5/02
Abstract: 精制环硼氮烷化合物的制备方法、充填方法和保存用容器制备精制环硼氮烷化合物时，在水分含量为2000体积ppm以下的环境条件下过滤环硼氮烷化合物。或者，在容器中充填环硼氮烷化合物时，在水分含量为2000体积ppm以下的环境条件下，在上述容器中充填上述环硼氮烷化合物。或者，使用具有0.1MPa或以上的耐压压力的环硼氮烷化合物保存容器作为保存环硼氮烷化合物的保存容器。
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公开(公告)号：CN101310038B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200680042613.5
申请日：2006-11-15
Applicant: 株式会社日本触媒
IPC: C23C16/38 , H01L21/314 , H01L21/768 , H01L23/522
CPC classification number: C23C16/342 , C07F5/02 , C23C16/30 , H01L21/314 , H01L21/318
Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的环硼氮烷化合物的化学气相沉积成膜用组合物，其满足以下至少一个条件：所述组合物中各种卤素原子的含量为100ppb以下的条件，或所述组合物中各种金属元素的含量为100ppb以下的条件。在化学式1中，R1可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为氢原子；R2可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为烷基、烯基或炔基。通过使用该组合物，可改进由含环硼氮烷环的化合物生产的薄膜的物理性质如低介电常数性和机械强度。[化学式1]
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公开(公告)号：CN1919849B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN200610059904.7
申请日：2006-01-28
Applicant: 株式会社日本触媒
CPC classification number: C07F5/02
Abstract: 精制环硼氮烷化合物的制备方法、充填方法和保存用容器制备精制环硼氮烷化合物时，在水分含量为2000体积ppm以下的环境条件下过滤环硼氮烷化合物。或者，在容器中充填环硼氮烷化合物时，在水分含量为2000体积ppm以下的环境条件下，在上述容器中充填上述环硼氮烷化合物。或者，使用具有0.1MPa或以上的耐压压力的环硼氮烷化合物保存容器作为保存环硼氮烷化合物的保存容器。
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公开(公告)号：CN1660855B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200410047171.6
申请日：2004-12-17
Applicant: 株式会社日本触媒
IPC: C07F5/05
CPC classification number: C07F5/022
Abstract: 在合成由化学式2表示的烷基环硼氮烷化合物的方法中，通过由化学式1表示的卤代环硼氮烷化合物与格氏试剂反应合成得到烷基环硼氮烷化合物，然后用水洗涤合成的烷基环硼氮烷化合物，或者升华纯化或蒸馏纯化至少三次，和/或蒸馏纯化至少两次。在化学式中，R1独立地代表烷基；R2独立地代表烷基；和X代表卤素原子。[化学式1] [化学式2]
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