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公开(公告)号：CN102269934A
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：CN201110130113.X
申请日：2011-05-19
Applicant: 株式会社拓普康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F9/7088
Abstract: 本发明提供一种曝光装置，结构简单且可以获得极高的对准精度。该曝光装置是一种使既定的掩模(18a)图形曝光于目标工件(23)上的曝光装置(10)。具备：对准照明组件(30)，能够将采用了曝光光的对准光照射在掩模(18a)的掩模侧对准标记(51)上；对准照相机组件(40)，用来使从对准照明组件(30)出射的、经过掩模(18a)以及投影透镜(20)的对准光入射。对准照相机组件(40)具有：成像光学系统，将掩模侧对准标记像(53)形成在虚设工件区域(42a)，该虚设工件区域(42a)相对于被入射的对准光照射下的掩模(18a)，位于不同于目标工件(23)的位置而与该目标工件(23)在光学上的位置关系同等；摄像光学系统，目标工件(23)和虚设工件区域相对于摄像装置的光学上位置关系同等。
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