公开(公告)号：CN115243998A

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN202180017960.7

申请日：2021-04-16

Applicant: 株式会社德山

Inventor： 根岸贵幸 ,  下田享史 ,  斋藤聪洋 ,  松田直树 ,  森胁正之

IPC: C01B11/04 ,  C07C209/68 ,  C07C211/63 ,  C11D7/08 ,  C11D7/18 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的目的在于，关于通过使有机碱溶液和卤素反应来进行的卤素含氧酸溶液的制造，提供在工业上有利的制造方法和制造装置。本发明涉及卤素含氧酸的制造方法以及卤素含氧酸的制造装置，所述卤素含氧酸的制造方法包括连续供给有机碱溶液和卤素并进行混合，连续取出产生的包含卤素含氧酸的反应液的工序，所述卤素含氧酸的制造装置具备：反应器、向该反应器进行供给的有机碱溶液供给单元和卤素供给单元、以及用于将反应液从该反应器取出至外部的反应液取出单元，分别利用有机碱溶液供给单元和卤素供给单元向反应器连续供给有机碱溶液和卤素并进行混合，由此以反应液的形式生成包含卤素含氧酸的溶液，利用反应液取出单元连续取出反应液。

公开(公告)号：CN113842866A

公开(公告)日：2021-12-28

申请号：CN202110710039.2

申请日：2021-06-25

Applicant: 株式会社德山

Inventor： 根岸贵幸 ,  下田享史 ,  斋藤聪洋 ,  松田直树 ,  柿囿兼一 ,  河野武史 ,  森胁正之

IPC: B01J19/26 ,  B01J19/00 ,  B01J4/00 ,  B01J10/00 ,  C11D7/10 ,  C11D7/32 ,  C11D7/60

Abstract: 一种卤素含氧酸溶液的制造方法和制造装置。针对卤素含氧酸溶液的制造，提供工业上有利的制造方法和制造装置。通过下述卤素含氧酸溶液的制造方法来解决，所述制造方法中，将有机碱溶液和卤素连续地供给至静态型混合器并进行混合，连续地获得所产生的卤素含氧酸。

公开(公告)号：CN118307418A

公开(公告)日：2024-07-09

申请号：CN202410415536.3

申请日：2021-04-16

Applicant: 株式会社德山

Inventor： 根岸贵幸 ,  下田享史 ,  斋藤聪洋 ,  松田直树 ,  森胁正之

IPC: C07C211/63 ,  H01L21/02 ,  C01B11/04 ,  C01B11/20 ,  B01J19/24 ,  C07C209/68 ,  C11D7/08 ,  C11D7/32 ,  C11D7/60

Abstract: 本发明涉及卤素含氧酸的制造方法以及卤素含氧酸的制造装置。该卤素含氧酸的制造方法包括向反应器内连续供给有机碱溶液和卤素并进行混合，连续取出产生的包含卤素含氧酸的反应液的工序；以及过滤工序，对所述包含卤素含氧酸的反应液进行过滤，在所述制造方法中，所述反应液的液体滞留时间为0.1～120分钟，所述反应液的连续取出在反应器内的反应液的pH达到恒定后进行，所述反应器内的反应液的pH为10.5～14.5，将所述反应器内的反应液的量保持为恒定。