公开(公告)号：CN1394357A

公开(公告)日：2003-01-29

申请号：CN01803401.2

申请日：2001-08-31

Applicant: 株式会社德山

Inventor： 周藤瑞树 ,  野仲彻 ,  东野诚司 ,  见神一郎

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  G03F7/42

CPC classification number: C11D3/3765 ,  C11D3/37 ,  C11D3/3723 ,  C11D3/3776 ,  C11D7/10 ,  C11D7/32 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/34 ,  C11D7/5013 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425

Abstract: 本发明的残渣洗涤液，由溶解了选自胺和氟化物盐的至少1种溶解剂的水溶性高分子的水系溶液构成，通过使用该洗涤液，可有效洗涤除去电子线路制造时产生的残渣，并且具有对绝缘膜、低电介质层间绝缘膜、布线等的防蚀效果高、起泡少的优点。

公开(公告)号：CN1193410C

公开(公告)日：2005-03-16

申请号：CN01803401.2

申请日：2001-08-31

Applicant: 株式会社德山

Inventor： 周藤瑞树 ,  野仲彻 ,  东野诚司 ,  见神一郎

IPC: H01L21/304 ,  B08B3/08 ,  G03F7/42

CPC classification number: C11D3/3765 ,  C11D3/37 ,  C11D3/3723 ,  C11D3/3776 ,  C11D7/10 ,  C11D7/32 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/34 ,  C11D7/5013 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425

Abstract: 本发明的残渣洗涤液，由溶解了选自胺和氟化物盐的至少1种溶解剂的水溶性高分子的水系溶液构成，通过使用该洗涤液，可有效洗涤除去电子线路制造时产生的残渣，并且具有对绝缘膜、低电介质层间绝缘膜、布线等的防蚀效果高、起泡少的优点。