X射线成像装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111566471B

    公开(公告)日:2023-06-16

    申请号:CN201880082441.7

    申请日:2018-11-06

    Abstract: 该X射线成像装置(100)具备:旋转机构(8),其使由X射线源(1)、检测器(5)、第一光栅(2)以及第二光栅(3)构成的摄像系统(200)相对地旋转;以及图像处理部(6),其在多个旋转角度的各个旋转角度下基于X射线的强度分布来生成暗场像。而且,图像处理部(6)构成为实施使暗场像的多个像素中的、暗场信号比阈值(V1)大的像素的暗场信号降低到设定值(V2)的散射校正。

    X射线相位差摄像系统
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108720857B

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN201810365342.1

    申请日:2018-04-20

    Abstract: 本发明提供一种X射线相位差摄像系统。X射线相位差摄像系统具备:X射线源;检测器;多个光栅,所述多个光栅包括第一光栅和第二光栅;以及光栅位置偏移获取部,其基于通过对由检测器检测到的干涉条纹图像进行傅立叶变换而得到的傅立叶变换图像,来获取光栅的位置偏移。

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