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公开(公告)号：CN117616341A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202280047560.5
申请日：2022-06-30
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 为了以高生产量实现精度高的曝光，曝光装置具备：保持并移动基板的基板保持架；模块，其包括具有二维排列的光调制元件的空间光调制器、向所述空间光调制器照射照明光的照明单元、以及投影单元，该投影单元向在所述基板上沿第1方向以及垂直于所述第1方向的第2方向二维排列的光照射区域分别引导来自所述光调制元件的所述照明光；以及沿扫描方向驱动所述基板保持架的控制部，所述光调制元件相对于所述扫描方向以及与该扫描方向正交的非扫描方向倾斜规定角度θ来二维排列，0°＜θ＜90°，所述控制部在对所述基板的规定范围进行曝光时，以使表示向所述规定范围内照射的从所述光调制元件分别射出的所述照明光的中心的光点位置交错配置这样的速度，对所述基板保持架进行扫描。
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