公开(公告)号：CN117616341A

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：CN202280047560.5

申请日：2022-06-30

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  水野恭志 ,  中岛利治 ,  藤村嘉彦

IPC: G03F7/20

Abstract: 为了以高生产量实现精度高的曝光，曝光装置具备：保持并移动基板的基板保持架；模块，其包括具有二维排列的光调制元件的空间光调制器、向所述空间光调制器照射照明光的照明单元、以及投影单元，该投影单元向在所述基板上沿第1方向以及垂直于所述第1方向的第2方向二维排列的光照射区域分别引导来自所述光调制元件的所述照明光；以及沿扫描方向驱动所述基板保持架的控制部，所述光调制元件相对于所述扫描方向以及与该扫描方向正交的非扫描方向倾斜规定角度θ来二维排列，0°＜θ＜90°，所述控制部在对所述基板的规定范围进行曝光时，以使表示向所述规定范围内照射的从所述光调制元件分别射出的所述照明光的中心的光点位置交错配置这样的速度，对所述基板保持架进行扫描。

公开(公告)号：CN117616338A

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：CN202280045554.6

申请日：2022-07-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  水野恭志 ,  中岛利治 ,  川户聪

IPC: G03F7/20

Abstract: 图案曝光装置(EX)包括：空间光调制元件(10)，其具有基于描绘数据被选择性驱动的多个微镜；照明单元(ILU)，其以规定的入射角向空间光调制元件照射照明光；以及投影单元(PLU)，其使来自空间光调制元件的被选择的打开状态的微镜的反射光入射并投影到基板上，图案曝光装置(EX)将与描绘数据对应的图案投影曝光到基板上，照明单元包括：聚光光学构件，其将来自成为照明光的光源的规定形状的面光源的光聚光并倾斜照射到空间光调制元件上，且沿着相对于投影单元的光轴以入射角倾斜的光轴来配置，使面光源与投影单元的光瞳光学共轭；以及修正光学构件，其使面光源的轮廓的形状变形，以对由来自空间光调制元件的打开状态的微镜的反射光在投影单元的光瞳上形成的面光源的像的轮廓根据入射角而变形为椭圆状的情况进行修正。

公开(公告)号：CN117561482A

公开(公告)日：2024-02-13

申请号：CN202280045409.8

申请日：2022-07-01

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 加藤正纪 ,  长谷川启佑 ,  中岛利治 ,  水野恭志

IPC: G03F7/20

Abstract: 图案曝光装置具备：照明单元，其对具有以基于描绘数据切换成打开状态或关闭状态的方式被驱动的多个微镜的空间光调制元件照射照明光；以及投影单元，其入射来自所述空间光调制元件的成为打开状态的微镜的反射光来作为成像光束，将与所述描绘数据对应的图案的像投影至基板。图案曝光装置具备：控制单元，其将与根据所述空间光调制元件的打开状态的微镜的分布密度而产生的所述成像光束的角度变化有关的信息与所述描绘数据一并保存为制程信息；以及调节机构，其在基于所述制程信息驱动所述空间光调制元件而在所述基板上曝光图案时，根据与与所述角度变化有关的信息，对所述照明单元或者所述投影单元内的至少一个光学构件的位置或者角度、或者所述空间光调制元件的角度进行调节。