公开(公告)号：CN1470945A

公开(公告)日：2004-01-28

申请号：CN03141315.3

申请日：2003-06-10

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 西健尔 ,  奥村正彦 ,  奥野浩生

IPC: G03F7/22 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70425 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70733

Abstract: 通过控制装置，在相对晶片上的一个划分区域的曝光结束后，到为了进行下一划分区域的曝光，通过载物台控制系统使初缩掩模板载物台和晶片载物台在扫描方向上开始减速之前的期间，把下一划分区域的曝光用控制参数的设定信息传送给载物台控制系统。因此，载物台控制系统为了从上位装置获卸载一划分区域的曝光用控制参数的设定信息，不需要使两载物台在加速前暂且停止，所以不存在停止时间，相应地可以提高生产能力。该场合时，不会产生什么妨碍，所以不会损坏其他的装置性能。

公开(公告)号：CN1462471A

公开(公告)日：2003-12-17

申请号：CN01816141.3

申请日：2001-09-20

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 奥野浩生 ,  奥村正彦

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70516 ,  G03F7/70858 ,  G03F9/7003

Abstract: 一种根据曝光时照明条件和投影光学系统周围的气压，可以高精度检测投影光学系统成像特性的成像特性检测方法和曝光方法。用与曝光的光波长相同的照明光从试样台(24)内部照射基准标志(34A、34B)，利用标度线对准显微镜(38A、38B)，对通过基准标志(34A、34B)的投影光学系统(PL)的像的标度线标志(37A、37B)位置偏移量进行测量，从此测量值计算出投影光学系统(PL)的投影倍数β，求出与该基准倍数β0的误差Δβ2。从求出的误差Δβ2减去对应于曝光时标度线(R)照明条件和投影光学系统(PL)周围大气压P的倍数误差的修正值Δβ1，求出曝光时实际残留倍数误差Δβ(＝Δβ2－Δβ1)。