公开(公告)号：CN1723540A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200380105422.5

申请日：2003-12-08

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 根井正洋 ,  小林直行 ,  千叶洋 ,  蛭川茂

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F9/7026 ,  G03F7/70341 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7034

Abstract: 曝光装置(EX)在投影光学系统(PL)和衬底(P)之间充有液体(50)，投影光学系统(P)通过液体(50)将图形图像投影在衬底(P)上，对衬底(P)进行曝光。它包括：保持衬底的衬底台(PST)；向投影光学系统的像面侧供给液体的液体供给装置(1)；以及经过液体(50)检测衬底(P)表面的表面信息的聚焦/平整检测系统(14)。曝光装置(EX)根据聚焦/平整检测系统检测(14)的表面信息，一边调整衬底(P)表面与投影光学系统(PL)经过液体(50)形成的像面之间的位置关系一边进行衬底的浸液曝光。能够以良好图案转印精度进行浸液曝光。

公开(公告)号：CN100429748C

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200380105422.5

申请日：2003-12-08

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 根井正洋 ,  小林直行 ,  千叶洋 ,  蛭川茂

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 曝光装置(EX)在投影光学系统(PL)和衬底(P)之间充有液体(50)，投影光学系统(P)通过液体(50)将图形图像投影在衬底(P)上，对衬底(P)进行曝光。它包括：保持衬底的衬底台(PST)；向投影光学系统的像面侧供给液体的液体供给装置(1)；以及经过液体(50)检测衬底(P)表面的表面信息的聚焦/平整检测系统(14)。曝光装置(EX)根据聚焦/平整检测系统检测(14)的表面信息，一边调整衬底(P)表面与投影光学系统(PL)经过液体(50)形成的像面之间的位置关系一边进行衬底的浸液曝光。能够以良好图案转印精度进行浸液曝光。