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公开(公告)号：CN118244593A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202311781445.3
申请日：2023-12-22
Applicant: 株式会社东进世美肯
Inventor： 韩荣圭 , 金相佑 , 丁海濬 , 金财民
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明涉及一种光刻胶剥离用组合物，具体提供一种组合物，该组合物采用2种不同胺，可以保持优异的光刻胶剥离力的同时，还可以确保切片蚀刻(slice etch)性能，将下部膜的损伤降低至最少。
