公开(公告)号：CN1704845A

公开(公告)日：2005-12-07

申请号：CN200510074806.6

申请日：2005-06-03

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金德倍 ,  金相廷 ,  金华泳 ,  诸葛真 ,  金宰贤

IPC: G03F7/004

CPC classification number: C08F212/14 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08K5/36 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  C08L25/14 ,  C08L25/18 ,  C08F212/08

Abstract: 本发明公开了用于采用短波长曝光光源形成高分辨率精细电路图案的光敏聚合物，及含有该聚合物的化学扩增的光刻胶组合物。所述光敏聚合物如以下式1所示，[式1]其中R1为氢原子，R2为氢原子（见图），R3为氯原子、溴原子、羟基、氰基、叔丁氧基、CH2NH2、CONH2、CH＝NH、CH(OH)NH2或C(OH)＝NH基团，R4为氢原子或甲基，1－x－y－z、x、y和z为构成所述光敏聚合物的每种重复单元的聚合度，x、y和z分别为0.01－0.8，且n为1或2。