公开(公告)号：CN103782365B

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：CN201280043092.0

申请日：2012-06-22

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 小林嘉仁 ,  伊藤正光 ,  稻田太郎 ,  渡边淳

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B08B7/0028 ,  B08B7/0014 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70925

Abstract: 本发明提供一种不需将装置的真空腔室内曝露在大气下、即能够简易进行该腔室内的掩模版吸盘的清洁、有助于提升装置的运转率的掩模版吸盘洁净器，其是用于清洁装置的掩模版吸盘的掩模版吸盘洁净器A，具备：贴附于掩模版吸盘的吸附区域的粘着剂层1；层叠于该粘着剂层1的支撑层2；及具有能够输送至掩模版吸盘的形状的基板3，支撑层2与基板3在部分粘着层4的接合区域41被部分地接合。

公开(公告)号：CN103782365A

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201280043092.0

申请日：2012-06-22

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 小林嘉仁 ,  伊藤正光 ,  稻田太郎 ,  渡边淳

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B08B7/0028 ,  B08B7/0014 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70925

Abstract: 本发明提供一种不需将EUV曝光装置的真空腔室内曝露在大气下、即能够简易进行该腔室内的掩模版吸盘的清洁、有助于提升EUV曝光装置的运转率的掩模版吸盘洁净器，其是用于清洁EUV曝光装置的掩模版吸盘的掩模版吸盘洁净器A，具备：贴附于掩模版吸盘的吸附区域的粘着剂层1；层叠于该粘着剂层1的支撑层2；及具有能够输送至掩模版吸盘的形状的基板3，支撑层2与基板3在部分粘着层4的接合区域41被部分地接合。