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公开(公告)号：CN100416549C
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200510096693.X
申请日：2000-06-30
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G05B19/41865 , G05B2219/32074 , G05B2219/32196 , G05B2219/32297 , G05B2219/45031 , Y02P90/20 , Y02P90/22
Abstract: 一种半导体处理过程的控制系统和控制方法以及记录媒体，其中，半导体处理过程控制系统，设置有：不取决于半导体处理装置和处理目标而进行半导体处理过程的控制的过程控制主体单元；和求取适用于所述半导体处理装置和所述处理目标的半导体处理装置的控制变量的控制变量计算装置，对应于所述半导体处理装置和所述处理目标可存在多个，同时，所述控制变量计算装置被构成为按照需要对应于所述处理控制主体单元可以插拔的结构。
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公开(公告)号：CN1262946C
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN00124246.6
申请日：2000-06-30
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G05B19/41865 , G05B2219/32074 , G05B2219/32196 , G05B2219/32297 , G05B2219/45031 , Y02P90/20 , Y02P90/22
Abstract: 半导体处理过程控制系统，设置有：不取决于半导体处理装置和处理目标而进行半导体处理过程的控制的过程控制主体单元；和求取适用于所述半导体处理装置和所述处理目标的半导体处理装置的控制变量的控制变量计算装置，对应于所述半导体处理装置和所述处理目标可存在多个，同时，所述控制变量计算装置被构成为按照需要对应于所述处理控制主体单元可以插拔的结构。
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公开(公告)号：CN1776665A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：CN200510096693.X
申请日：2000-06-30
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G05B19/41865 , G05B2219/32074 , G05B2219/32196 , G05B2219/32297 , G05B2219/45031 , Y02P90/20 , Y02P90/22
Abstract: 一种半导体处理过程的控制系统和控制方法以及记录媒体，其中，半导体处理过程控制系统，设置有：不取决于半导体处理装置和处理目标而进行半导体处理过程的控制的过程控制主体单元；和求取适用于所述半导体处理装置和所述处理目标的半导体处理装置的控制变量的控制变量计算装置，对应于所述半导体处理装置和所述处理目标可存在多个，同时，所述控制变量计算装置被构成为按照需要对应于所述处理控制主体单元可以插拔的结构。
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公开(公告)号：CN1280343A
公开(公告)日：2001-01-17
申请号：CN00124246.6
申请日：2000-06-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G06F17/00
CPC classification number: G05B19/41865 , G05B2219/32074 , G05B2219/32196 , G05B2219/32297 , G05B2219/45031 , Y02P90/20 , Y02P90/22
Abstract: 半导体处理过程控制系统,设置有:不取决于半导体处理装置和处理目标而进行半导体处理过程的控制的过程控制主体单元;和求取适用于所述半导体处理装置和所述处理目标的半导体处理装置的控制变量的控制变量计算装置,对应于所述半导体处理装置和所述处理目标可存在多个,同时,所述控制变量计算装置被构成为按照需要对应于所述处理控制主体单元可以插拔的结构。
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